lowK电介质刻绘355nm紫外激光器Q304-HD-6426T
重复频率40K~200K，355nm功率高达14W以上@40K
应用场合:
FPC钻盲孔、通孔切割、划线、FPC结构材料烧蚀、蓝宝石、砷化镓（G a A s）、
氮化镓（G a N）刻绘切割、激光剥离、晶圆刻绘标印、切割、low K 电介质刻绘/刻槽、硅片钻孔、
电子封装分离、无损薄膜切割划线、晶片贴膜划线、太阳能电池划线、体光栅刻线、SiC碳化硅划片、
ITO 电极图案设计、LDP/LDI、修复 LCD/PDP 与 PDP/ A M OLED 加工
lowK电介质刻绘355nm紫外激光器
