臭氧微纳米气泡清洗晶片
我想介绍清洁半导体晶片的方法，作为显示微纳米气泡效果的示例之一。半导体（集成电路）也被称为工业大米，是支持现代社会的的电子组件。用于制造的技术称为光刻技术，清洁是制造中非常重要的步骤之一。传统上，强力化学药品已用于清洁半导体晶圆。其中，使用硫酸过氧化物（SPM：硫酸+/ 150℃）去除光致抗蚀剂（光敏有机材料）。尽管这种化学溶液具有强大的清洁能力，但存在废
工程微纳米气泡发生装置应用范围
臭氧微纳米气泡清洗晶片
我想介绍清洁半导体晶片的方法，作为显示微纳米气泡效果的示例之一。半导体（集成电路）也被称为工业大米，是支持现代社会的的电子组件。用于制造的技术称为光刻技术，清洁是制造中非常重要的步骤之一。传统上，强力化学药品已用于清洁半导体晶圆。其中，使用硫酸过氧化物（SPM：硫酸+/ 150℃）去除光致抗蚀剂（光敏有机材料）。尽管这种化学溶液具有强大的清洁能力，但存在废物处理和安全问题，因此被认为是在室温附近以“水”为基础进行清洁的理想技术。因此，我们一直在开发使用臭氧微纳米气泡的半导体晶片清洁技术。
纳米气泡有个坚硬的壳
但是，从各种现象的分析来看，可能存在直径大大小于100 nm的纳米气泡。通常，如果在水中会产生这种微小的气泡，则气泡应该几乎立即消失（完全溶解）。但是，在某种程度上含有电解质（盐）的水中，
当产生微纳米气泡时，它们中的一些仍作为纳米气泡保留。气泡的表面电荷被认为是稳定机制。当气液界面带电时，带有相反符号的电荷会聚集在其周围。这是由于静电作用造成的，在这种情况下，电荷为离子。由于气泡在正常的pH条件下带负电荷，因此各种阳离子（如Na +和Mg2 +）聚集并形成一种“壳”。长期稳定的作用仍是一个谜，但我们认为这种电荷的作用会引起纳米气泡。
纳米气泡神奇的清洗力
纳米气泡的清洁效果尚未完全阐明。但是，我们将展示长期显示出一定效果的情况。图10是某个切割部位的副本。在机械切割现场，冷却液用于去除金属高速摩擦时产生的热量。用过的。大约有3-10％的油添加到水中，并且已经弄清楚了通过将水制成纳米气泡可以大大提高切割效率。为此目的引入了纳米气泡水，但是获得了意想不到的副产物。其中之一是清洁效果。在引入纳米气泡之前，黑色固体表面已附着在机器的整个表面上。在这种情况下，包含切削屑的冷却液散布在周围并留下黑色固体。但是，当我换成纳米气泡水时，表面被分散的冷却剂冲洗了。诸如表面活性剂之类的化学物质不用于产生纳米气泡，但是普通的自来水仅经过物理处理。然而，获得这种效果的事实表明纳米气泡可用于清洁目的。
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