PVD是物理气相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。
目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以
气相沉积设备厂商
PVD是物理气相沉积技术的简称，是指在真空条件下，采用物理的方法将材料（俗称靶材或膜料）气化成气态分子、原子或离子，并将其沉积在工件形成具有某种特殊功能的薄膜的技术，常见的PVD沉积技术有：蒸发技术、溅射技术、电弧技术。
目前,提高NbFeB永磁材料耐腐蚀性能的方法有添加合金元素和外加防护性镀层,但主要以添加防护性镀层(金属镀层、有机物镀层和复合镀层)为主。防护性镀层可以阻碍腐蚀相与基体之间的相互接触从而减缓磁体的腐蚀。添加镀层的方法有电镀、化学镀、物理气相沉积等。物理气相沉积（PVD）是一种真空镀膜工艺，许多人知道常用于提高切削刀具的性能。
未来发展策略
1、目前实体经济走势整体疲弱，复苏充满不确定性，经济处于继续探底过程，真空镀膜设备制造企业应着力进行产业结构优化升级，重质量、重服务明确市场定位，大力研发拥有自主知识产权的新产品新工艺，提高产量和服务水平。
2、依托信息化发展趋势，坚持“以信息化带动工业化，以工业化促进信息化”，走出一条科技含量高、经济效益好、资源消耗低、环境污染少、人力资源优势得到充分发挥的新型工业化路子。
3、依托支持，大力加强与拥有行业技术和工艺水平的科研院所、大型企业、高校合作，使得新品能迅速推向市场。
真空镀膜技术及设备拥有十分广阔的应用领域和发展前景。未来真空镀膜设备行业等制造业将以信息化融合为，依靠技术进步，更加注重技术能力积累，制造偏向服务型，向世界真空镀膜设备行业等制造业价值链挺进。
镀膜技术在防伪技术中的应用 防伪膜种类很多，从使用方法可分为反射式和透射式；从膜系附着方式可以分为直接镀膜式、间接镀膜式或间接镀膜剪贴式。
镀膜技术在飞机防护涂层方面的应用 飞机的钛合金紧固件，原来采用电镀方法镀镉。 镀膜技术在光学仪器中的应用 人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。真空镀膜设备应用十分广泛，如今在我们的生活中到处可见，是必不可少的一项技术。
蒸发式真空镀膜机的工作原理：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之知一。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子道以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发专源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的属距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。简言之，蒸发式真空镀膜机的工作原理就是真空室内利用电阻加热法，把紧紧贴在电阻丝上面的金属丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。
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