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Si3N4的使用温度一般不超过1300°C
氮化硅的很多性能都归结于此结构。为了消除砖在烧成过程中由于MgO和Cr2O3、Al2O3或直接结合氮化硅砖。纯Si3N4为3119，有α和β两种晶体结构，均为六角晶形，其分解温度在空气中为1800℃，在110MPa氮中为1850℃。Si3N4 热膨胀系数低、导热率高。热压烧结
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Si3N4的使用温度一般不超过1300°C
氮化硅的很多性能都归结于此结构。为了消除砖在烧成过程中由于MgO和Cr2O3、Al2O3或直接结合氮化硅砖。纯Si3N4为3119，有α和β两种晶体结构，均为六角晶形，其分解温度在空气中为1800℃，在110MPa氮中为1850℃。Si3N4 热膨胀系数低、导热率高。热压烧结的氮化硅加热到l000℃后投入冷水中也不会。在不太高的温度下，Si3N4 具有较高的强度和抗冲击性，但在1200℃以上会随使用时间的增长而出现破损，使其强度降低，在1450℃以上更易出现疲劳损坏，所以Si3N4 的使用温度一般不超过1300℃。
氮化硅结合碳化硅砖的特点
氮化硅结合碳化硅砖是指用SiC和Si为原料，经氮化烧成的耐火制品。热压烧结法（HPS)是将Si3N4粉末和少量添加剂（如MgO、Al2O3、MgF2、Fe2O3等），在1916MPa以上的压强和1600℃以上的温度进行热压成型烧结。其特点是以Si3N4为结合剂。Si3N4以针状或纤维状结晶存在于SiC晶粒之间，是一种重要的新型耐火材料。一般含碳化硅70%～75%，氮化硅18%～25%。具有良好抗腐蚀能力，1400℃抗折强度达50～55MPa，显气孔率15%。热膨胀系数(4.5～5.0)×10-2℃-1。采用高温烧成法制备。主要用于高炉风口、铝电解槽内衬等。 氮化硅陶瓷材料具有热稳定性高。由于氮化硅是键强高的共价化合物，并在空气中能形成氧化物保护膜，所以还具有良好的化学稳定性，1200℃以下不被氧化，1200~1600℃生成保护膜可防止进一步氧化，并且不被铝、铅、锡、银、黄铜、镍等很多种熔融金属或合金所浸润或腐蚀，但能被镁、镍铬合金、不锈钢等熔液所腐蚀。
氮化硅结合碳化硅制品介绍
氮化硅融合碳化硅制品：氮化硅融合碳化硅原材料是一种耐火保温材料，关键商品有氮化硅融合碳化硅辐射管、氮化硅融合碳化硅砖等。Si3N4今后的发展方向是：⑴充分发挥和利用Si3N4本身所具有的优异特性。
被广泛应用于钢材、稀有金属、化工厂装饰建材等多种多样制造行业，具备环保节能、环境保护、耐高温、抗腐蚀等众多优势。1、氮化硅融合碳化硅制品，材质硬实，硬度约为9，在非金属材质中归属于强度原材料，仅次金钢石。2、氮化硅融合碳化硅制品的常温下强度高，在1200-1400℃高温下，基本上维持与常温下同样時间的强度和强度。伴随着应用氛围的不一样，应用溫度可做到1650-1750℃。3、线膨胀系数小，对比碳化硅等产品导热系数高，不容易造成焊接应力，具备优良热震可靠性，使用期长。高温抗蠕工作能力强，抗腐蚀，易做成规格符合规定的产品。4、商品广泛应用于钢材、稀有金属、化工厂装饰建材等多种多样制造行业，环保节能、环境保护、控制成本。制得方式氮化硅砖选用硅粉渗氮后煅烧或压合方式制得。烧造氮化硅砖的生产工艺流程与镁质砖大致差不多。以便清除砖在烧制全过程中因为MgO和Cr2O3、Al2O3或立即融合氮化硅砖。优势氮化硅砖耐火性高，高温强度大，抗偏碱渣腐蚀性强，耐热性，对酸碱性渣也是有一定的适应能力。运用用以航空公司、冶金工业、机械设备、半导体材料等工业生产中生产制造高温滚动轴承、冶金工业钳锅、半导体材料地区冶炼舟器等。氮化硅是一种关键的构造结构陶瓷。它是一种超硬化学物质，自身具备润湿性，而且抗磨损，为原子晶体；高温时。并且它还能抵御热冷冲击性，在空气中加温到1000℃之上，大幅度制冷再大幅度加温，也不会。更是因为氮化硅瓷器具备这般出色的特点，大家经常运用它来生产制造滚动轴承、气轮机叶子、机械设备密封圈等机械设备预制构件。
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