湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
离子渗氮表面形成的渗氮层具有优异的力学性能，如高硬度、高性、良好的韧性和疲劳强度等，并使离子渗氮零件的使用寿命成倍地提高。此外，离子渗氮节约能源，渗氮气体消耗少，操作环境无污染。其缺点是设备
离子氮化炉
湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
离子渗氮表面形成的渗氮层具有优异的力学性能，如高硬度、高性、良好的韧性和疲劳强度等，并使离子渗氮零件的使用寿命成倍地提高。此外，离子渗氮节约能源，渗氮气体消耗少，操作环境无污染。其缺点是设备昂贵，工艺成本高，不宜于大批量生产。
离子渗碳从加热、渗碳到淬火处理，都在同一装置内进行。这种装置是具有辉光放电机构的加热渗碳室和油淬火室的双室型热处理炉。离子轰击热处理还可以进行离子碳氮共渗、离子硫氮共渗、离子渗金属等，所以在国内外具有很大的发展前途。
辉光放电时，在放电管两极电场的作用下，电子和正离子分别向阳极、阴极运动，并堆积在两极附近形成空间电荷区。从上个世纪末，国内许多单位如科罗纳实验室、清华大学、大连理工大学、华北电力大学、西安交通大学、华中科技大学、中科院物理所、河北师范大学等先后开始了对APGD的研究。因正离子的漂移速度远小于电子，故正离子空间电荷区的电荷密度比电子空间电荷区大得多，使得整个极间电压几乎全部集中在阴极附近的狭窄区域内。这是辉光放电的显著特征，而且在正常辉光放电时，两极间电压不随电流变化。
两种靶电源不同之处：选用(工艺型)双极矩形波或正弦波中频靶电源，因其输出的电压和电流的占空比可以大范围连续调节，镀膜时电源的工艺参数适应范围比“经济型”中频靶电源要宽很多；适用于需要经常变化的磁控溅射镀膜工艺和不同材质的膜层。1988年，Kanazawa等人报道了在大气压下使用氦气获得了稳定的APGD的研究成果，并通过实验总结出了产生APGD要满足的三个条件：（1）激励源频率需在1kHz以上。(经济型)双极性矩形波或正弦波中频靶电源的输出电压或电流的工艺调节范围偏窄，若相关参数选配合适，一般可用于磁控溅射镀膜工艺相对固定和单一的工业生产中，其优点是靶电源价格可以相对便宜。
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