中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点
中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。
新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种
磁控多弧复合镀膜机
中频磁控溅射镀膜设备有哪些特点
中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜。中频磁控镀膜设备溅射技术已渐成为溅射镀膜的主流技术，它优于直流磁控溅射镀膜的特点是克服了阳极消失现象；减弱或消除靶的异常弧光放电。因此，提高了溅射过程的工艺稳定性，同时，提高了介质膜的沉积速率数倍。
新研发平面靶，圆柱靶，孪生靶，对靶等多种形式的中频溅射靶结构和布局。该类设备广泛应用于表壳、表带、手机壳、高尔夫球具、五金、餐具等镀TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各种装饰镀层。
多弧离子镀膜机的运用
多弧离子镀膜机用于不一样层次五金商品，通常的修建五金件、锁具，用多弧离子镀膜设备可担任，中高层次商品如表带、表壳、眼镜框、手机壳、高尔夫球具、卫浴洁具、饰品等，通常选用电弧/中频（+直流）磁控溅射复合型镀膜设备，依据装载量选用巨细机型。该设备可镀黄金色、玫瑰金、咖啡色、棕色、古铜色、蓝色等装修膜。
蒸发系统的结构与工作原理介绍
蒸发系统由蒸发源、送丝机构、水冷挡板等组成。HD1500-12型高真空卷绕镀膜机所用的蒸发源为氮化硼蒸发舟，它具有耐腐蚀、耐热性能优良、蒸镀层纯度高等特点。采用电阻加热方式，由送丝机构将铝线连续不断地送到对应的蒸发舟表面，使它们迅速加热得以蒸发。
蒸发舟的两端各装在正、负电极上，采用端部嵌入夹紧方式，缝隙垫以石墨纸。电极均采用内部水冷结构，避免发热烧毁。每组蒸发源的功率可通过操作面板上的电位器进行单独调节，也可以整体调节。
送丝机构包括交流电机、减速器、摩擦压轮组等，交流电机联接减速器通过链轮驱动串接在传动轴上的每组压轮，实现铝丝的同步输送，送丝的速度由变频器控制，可通过操作面板上的加速或减速按钮进行调节，速度值在触摸屏中显示。
水冷挡板由固定的蒸发槽和活动挡板组成，两者都要通水冷却。蒸发槽安装在底板上，主要用于阻止热量向四周及下面扩散，活动挡板在蒸发槽的上面，通过真空室外部的气动装置可将其打开或关闭，它是用于在蒸发舟进行预加热和卷绕系统未启动或运转速度较慢时隔绝热源对基材的辐射，避免基材烧损。
镀膜行业发展的趋势
当今镀膜行业制作方式主要有两种，一种是化学气象沉积，一种是化学镀膜（CVD），一种是物理气象沉积，也就是真空镀膜（PVD）。
化学镀膜是把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应所需其他气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜的过程。在化学薄膜的过程中，容易产生溶液污染，如果镀层表面杂质多，镀出来的效果不好。
化学镀膜需要的反应温度很高，一般要控制在1000℃左右，但很多基体材料是无法受此高温，及时硬质合金，虽然能经受高温，但在化学镀膜制作的环境下由于高温也会造成晶粒粗大，引起脆性相，性能变坏。如果在硬质合金上镀TiN，晶体扩散出来的碳会与溶液发生反应形成脱碳层，该层韧性差，抗弯强度低，造成刀具使用寿命缩短。
真空镀膜机很好的解决了化学镀膜产生的一系列问题。真空镀膜是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电技术，利用其他放电是靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及反应产物沉积在工件上。
所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，解决了化学镀膜中的溶液污染问题，不会产生有毒或污染物质，镀出来的膜层硬度更高，性和腐蚀性好，性能更稳定。真空镀膜工艺处理的温度可以控制在150℃~500℃以下，适用于多种基体材料，可制备多姿多彩的膜层，镀制硬质合金刀具可使其寿命提高2~10倍。
维修真空镀膜机一定要按照步骤操作
维修真空镀膜机一定要按照步骤操作
首先我们要保证镀膜机与地面充分接触，扩散泵和油增压泵加热前必须接通冷却水并开维持泵。扩散泵和增压泵停止工作，维持泵半小时后才能关，1小时后断水，但泵内未冷却至80℃以下时，不得切断冷却水，以防止泵芯烧毁。
扩散泵和增压泵各留有备用水出口，若镀膜机故障或停电必须开备用出口让其冷却扩散泵和增压泵，镀膜工作前必须接通全部设备冷却进水，以防止电极和基体材料烧毁。设备各传动转轴真空密封处均采用“骨架式油封”密封形式，骨架式油封内间均充以饱和油蒸汽压很低的真空油脂和扩散泵油。使用一段时间即会损耗，必须以相同的真空油脂和扩散泵油充入，决不能用其他油品代替。
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