真空镀膜是真空应用领域的一个突破性技术，利用物理或者化学方法并吸收一系列新技术而成的工艺，目的就是为了在实际生产中为产品创造薄膜保护层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。
为什么需要进行真空镀膜呢？一代光学镀膜原理抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。这项工艺已经成为了电子元器件制造中的
电路板防水镀膜加工
真空镀膜是真空应用领域的一个突破性技术，利用物理或者化学方法并吸收一系列新技术而成的工艺，目的就是为了在实际生产中为产品创造薄膜保护层。工艺主要分为真空蒸镀、磁控溅射镀膜、离子镀三种。
为什么需要进行真空镀膜呢？一代光学镀膜原理抗磨损膜始于20世纪70年代初，当时认为玻璃镜片不易磨制是因为其硬度高，而有机镜片则太软所以容易磨损。这项工艺已经成为了电子元器件制造中的一项不可或缺的技术，主要是为了使产品表面具有损耐高温，耐腐蚀等优于产品本身的性能，从而提高产品的质量，延长加工产品的使用寿命，不仅如此，还可以节约能源，获得更为显著的技术经济效益。
实际应用中，我们往往会根据产品的性质来决定选用哪种真空镀膜工艺。磁控溅射镀主要用于金属产品，蒸发镀主要用于塑胶产品，光学离子镀主要用于璃玻产品。由于一层膜只能减少特定波长光的反射,减少较宽光谱的光线反射需要多层镀膜,因而影响减反射膜效果的一个重要技术指标是镀膜的层数。真空电镀为磁控溅射镀，以电镀不锈钢产品材质为主，可以电镀金色、玫瑰金色、黑色、枪色、蓝色等颜色，质量稳定，保障。
对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。
溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。
溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。
减反射镀膜:盖板玻璃反射的环境光影响用户视觉体验,特别是在户外强光环境下在移动终端上采用减反射镀膜,减少56%的反光量。由于一层膜只能减少特定波长光的反射,减少较宽光谱的光线反射需要多层镀膜,因而影响减反射膜效果的一个重要技术指标是镀膜的层数。还有使用WaterBasic电子零件和金属配件，可使它们在长期库存，工件会保持没有硫化且寿命超过十年。镀膜设备可以镀7层减反射膜,具有很好的减反射效果。
减反射镀膜:镀膜技术是公司的核心技术,即将开始减反射镀膜的布局。
减薄:具有国内大和独有的5G减薄生产能力
这种室温沉积制备的0.1-100微米薄膜涂层，厚度均匀、致密无、透明无应力、不含助剂、不损伤工件、有优异的电绝缘性和防护性，是当代的防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料。Parylene是一种保护性高分子材料，中文名，聚对二，派瑞林它可在真空下气相沉积，Parylene活性分子的良好穿透力能在元件内部、底部，周围形成无，厚度均匀的透明绝缘涂层，给元件提供一个完整的防护涂层，抵御酸碱、盐雾、霉菌及各种腐蚀性气件的侵害，因为Parylene不是液体，所以涂敷过程中不会聚集，桥接式形成弯月面。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。
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