真空镀膜加工真空镀膜加工
真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年, 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年, 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove；Pulker)。1857年, 在氮气中蒸发金属丝形
真空镀膜加工
真空镀膜加工真空镀膜加工
真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年, 开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年, 透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年, 开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove；Pulker)。1857年, 在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年, 报道制成等离子体聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年, 碳氢化合物气相热解(Sawyer；Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸发(坩埚) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD)； 膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。
电镀的含义：
镀层金属或其他不溶性材料做阳极，待镀的金属制品做阴极，镀层金属的阳离子在金属表面被还原形成镀层。为排除其它阳离子的干扰，且使镀层均匀、牢固，需用含镀层金属阳离子的溶液做电镀液，以保持镀层金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上金属镀层，改变基材表面性质或尺寸.电镀能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、润滑性、耐热性、和表面美观。
采用的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及在此基础之上与国际的工艺。凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验，为客户提供适合的涂层加工方案。
pvd真空电镀，抗腐蚀，耐腐蚀，化学性能稳定，抗酸。手机外壳PVD镀膜抵抗力，镀膜外壳容易清除油漆和指纹。在强烈的阳光，咸的湿地和城市环境下，都不失去光泽，不氧化，，不脱落。高度损，耐刮擦，不易划伤。可镀材料广泛，与基体结合力强。
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