百级洁净室设计装修参数标准：
1. 洁净度：粒径≥0.1微米的尘埃粒子数量需要小于100个。
2. 压差及温湿度：温度22℃±2;湿度55%±5;基本房间要满布ffu，做高架地板。做MAU+ffu+DC系统。还有保持正压，相邻房间压力梯度保证在10pa左右。
3. 照度：由于无尘洁净室的工作内容大多有精细的要求，而且又都是密闭性房屋，所以，对照明一向有很高的要求。主要
洁净室净化工程
百级洁净室设计装修参数标准：
1. 洁净度：粒径≥0.1微米的尘埃粒子数量需要小于100个。
2. 压差及温湿度：温度22℃±2;湿度55%±5;基本房间要满布ffu，做高架地板。做MAU+ffu+DC系统。还有保持正压，相邻房间压力梯度保证在10pa左右。
3. 照度：由于无尘洁净室的工作内容大多有精细的要求，而且又都是密闭性房屋，所以，对照明一向有很高的要求。主要有以下几点：
4. 局部照明：这是指为增加某一地点的照度而设置的照明。但在室内照明中一般不单独使用局部照明。
5. 混合照明：指工作面上的照度由一般照明和局部照明合成照明，其中，一般照明的照度应占总照度的10%-15%。
防微振的重要性体现在各行各业:例如感光化学工业,彩色胶片乳剂层14个涂层总厚度仅19μm,在涂布过程中由于微小的振动将使乳剂涂层厚薄不匀,在胶片上产生横纹;在惯导技术方面,为了提高的打击精度,准确命中目标,需要对陀螺仪、加速度计及组合制导(、导航、地形匹配及景物匹配)系统的精度提出高的要求,这种惯导系统的调试和检测,必须在极为宁静的环境中进行;对于微电子工业,线宽0.1μm(4G DRAM)产品已进人市场,硅片加工中的光刻工序对微振动的控制要求极为严格。可见，对于企业来说，能耗的降低就意味着成本的节约，所以说市场需求正在往节能方向发展。
在集成电路的制造过程中,被加工的是单一的硅片,从原材料到产品需要进行几百道物理、化学加工工序,其间如果遭受污染,就会引起产品大量报废,例如64 MDRAV,在制造过程中,空气中尘埃粒径应被控制在0.035μm以下;环境微振动值应控制在4.5X10-3mm/s以下,在光刻工序,很小的微振动会引起对位不准,影响产品的成品率。战后半个世纪是现代科技高速发展的时期,人类经过半个世纪的努力,无论在农业、工业、、生物、宇宙探索、环境以及基本理论研究等方面,都取得了伟大的成就。其他如精密机械加工、光学器件检测、激光实验、超薄金属轧制以及理化实验等都需要对微振动进行控制。
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