300C有机无机联合蒸发
主要用途：
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标：
极限真空度：≤6.
钙钛矿蒸发镀膜机批发
300C有机无机联合蒸发
主要用途：
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ，
蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。
蒸发温度：加热温度：室温～1800℃；
蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；
工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调；
烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）
电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999
想要了解更多沈阳鹏程真空技术有限责任公司的相关信息，欢迎拨打图片上的热线电话！
电阻蒸发镀膜机的结构以及特点
结构和特点：结构可为立卧式双开门结构，成膜速率快，色泽鲜亮，膜层不易受污染，可获得致密性好、纯度高、膜厚均匀的膜层，不产生废液、废水，可避免对环境污染，属环保设备。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司本着多年电阻热蒸发镀膜产品行业经验，专注电阻热蒸发镀膜产品研发定制与生产，的电阻热蒸发镀膜产品生产设备和技术，建立了严格的产品生产体系，想要更多的了解，欢迎咨询图片上的热线电话！！！
（作者： 来源：）
