公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应，选用方解石是因为其的近紫外线穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有时候也叫铬板。选用灯的g线应i线，在于你常用的光刻胶，每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。
玻璃板
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻掩模版通常用石英玻璃做为化学反应，选用方解石是因为其的近紫外线穿透率。掩模版遮光一部分用Cr，因此有时候也叫铬板。选用灯的g线应i线，在于你常用的光刻胶，每个光刻胶产品介绍都是列举其所比较敏感的纳米段。
标定板图纸内容如下：
1. 需要附上材料
2. 精度
3. 外形尺寸公差，厚度
4. 制作效果图纸：正负板之分等。（如果考虑价格因素，需要强调多少倍率下面允许看到瑕疵）
5. 需要提供详细的CAD图纸（图纸
i好不要画比例图纸）。以上为制作标定板完整信息
光刻是制造半导体器件和集成电路微图形结构的关键工艺。其工艺质量直接影响着器件成品率、可靠性、器件性能以及使用寿命等参数指标。④一般情况下，阳图PS版显影液(原液)的显影能力为10m2/L。光罩是光刻工艺中的一个重要环节，光刻版必须非常洁净，所有硅片上的电路元件都来自版图。如果光刻版不洁净，存在污染颗粒，这些颗粒就会被到硅片表面的光刻胶上，造成器件性能的下降。
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