酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。法国学者耶罕·勒贝格在1531年写下了酸浸蚀铁的配方。他从水与醋的混合物中提炼出出氯化铵、普通的明矾和流酸亚铁。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要清洗，之后图上一层耐酸物质。这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在盐酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的区域
平面曝光显影服务
酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。法国学者耶罕·勒贝格在1531年写下了酸浸蚀铁的配方。他从水与醋的混合物中提炼出出氯化铵、普通的明矾和流酸亚铁。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要清洗，之后图上一层耐酸物质。这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在盐酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的区域被刻蚀到所需的深度。之后将抗蚀层清除，就可展现出蚀刻的成品样子。烫金或者发黑都可以被用于突出图案。金属蚀刻制品上的图案往往比传统雕刻更方便而代价更少。
之后将抗蚀层清除，就可展现出蚀刻的成品样子。烫金或者发黑都可以被用于突出图案。金属蚀刻制品上的图案往往比传统雕刻更方便而代价更少。
显影就是在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。显影包括正显影和反转显影。该技术能在金属表面创造出具有高度装饰性的浅浮雕，而又不影响其结构的完整性。
经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
在曝光机橡皮膜接触菲林底片一侧粘上一块绒布，绒毛朝菲林底片，绒布的背面绕上几圈铜丝，铜丝与橡皮膜的接地线相连，防止绒布产生静电。绒布和橡皮膜之间不好粘贴，要选用合适的胶水，但不宜使用含有有机溶液的胶水，否则容易损坏橡皮膜。此法生产效率较高，但同样不能杜绝偏移。
以上几种方法中，实用的是前面一种。虽然效率低些，但相对于因偏移造成返工甚至使PCB报废而言还是值得采用的。
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