酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。法国学者耶罕·勒贝格在1531年写下了酸浸蚀铁的配方。他从水与醋的混合物中提炼出出氯化铵、普通的明矾和流酸亚铁。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要清洗，之后图上一层耐酸物质。这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在盐酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的区域
亮面曝光显影加工
酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。法国学者耶罕·勒贝格在1531年写下了酸浸蚀铁的配方。他从水与醋的混合物中提炼出出氯化铵、普通的明矾和流酸亚铁。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要清洗，之后图上一层耐酸物质。这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在盐酸或者肖酸溶液中，直至其暴露的区域被刻蚀到所需的深度。之后将抗蚀层清除，就可展现出蚀刻的成品样子。烫金或者发黑都可以被用于突出图案。金属蚀刻制品上的图案往往比传统雕刻更方便而代价更少。
可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。1、蚀刻：利用蚀刻液与bai铜层反应，蚀去线路板上不需要du的铜，得到zhi所要求的线路。
2、曝光dao：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上。
3、显影：通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。
胶片上被极亮度光线照射的区域，在显影时。其上几乎所有的卤化银晶体都将转化成黑色的金属银，这些区域在底片上是黑色的。
胶片上被中等亮度光线照射的区域，在显影时，其上绝大多数（并非全部）卤化银晶体将会转化成黑色的金属银，这些区域在底片上是暗灰色的。
胶片上被很弱光线照射的区域，在显影时，其上只有少量卤化银晶体转化成黑色的金属银，这些区域在底片上是浅灰色的。
导致的原因较多，通常考虑UV光是否正常，即曝光机是否工作正常。
预烘烤时间过长也会导致显影不净。
蚀刻液有问题或浓度较低等等都会导致时刻不净。
总之就是从两方面考虑：油墨有问题，显影液正常；油墨没问题显影液异常；或者两者都异常。
板子过显影线的线速（即显影时间）通常会影响，线速过快就会显影不净。
用肉眼一般也看得出来，也可以用低倍目镜看。
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