脉冲激光沉积简介
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。
【设备主要用途】
PLD450A型脉冲激光沉积设备采用PLD脉冲激光沉积技术，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
【设备优点】
激光脉冲沉积设备报价
脉冲激光沉积简介
沈阳鹏程真空技术有限责任公司——脉冲激光沉积供应商，我们为您带来以下信息。
【设备主要用途】
PLD450A型脉冲激光沉积设备采用PLD脉冲激光沉积技术，用于制备高温超导薄膜、半导体膜、铁电薄膜、硬质薄膜以及微电子和光电子用多元氧化物薄膜及异质结，也可用于制备氮、碳、硅化合物及各种有机—无机复合材料薄膜及金刚石薄膜等。
【设备优点】
设备全程采用一键式操作抽气，关机，程序自动化定时操作。避免了繁琐的角阀，插板阀人工开启。
【设备主要组成】
设备由沉积腔室（单室球形或圆筒形）、样品加热转台、激光入射转靶、激光窗、电源控制系统、激光束扫描系统、计算机控制转靶的旋转、脉冲准分子激光器等组成
脉冲激光沉积系统的特点有哪些？
超高真空不锈钢腔体
可集成热蒸发源或溅射源
可旋转的耐氧化基片加热台
流量计或针阀准确控制气体流量
标准真空计 干泵与分子泵
可选配不锈钢进样室
可选配基片-靶材距离自动控制系统
是金属氧化物、氮化物、碳化物、金属纳米薄膜、多层膜、超晶格的较佳设备
以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多脉冲激光沉积的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。
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