显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位显影辊表面电位感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。显影包括正显影和反转显影。正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。多用在模拟复印机中。反转显影中，感光鼓与色粉电荷极性相同。
经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻
铭牌曝光显影工艺
显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位显影辊表面电位感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。显影包括正显影和反转显影。正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。多用在模拟复印机中。反转显影中，感光鼓与色粉电荷极性相同。
经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
这两种极端的情况很容易理解，下面我们考虑现实生活中可能出现的情况。当我们拍摄一张照片时曝光一幅胶片，会发生什么呢？强光会落到胶片上的某些区域，弱一点的光会落到另外一些区域，而在某些区域上根本就没有任何光线，从而出现如下结果：
胶片上被极亮度光线照射的区域，在显影时。其上几乎所有的卤化银晶体都将转化成黑色的金属银，这些区域在底片上是黑色的。
从光能量的定义公式可知，总曝光量E是光强度I和曝光时间T的乘积。若光强度I不变，则曝光时间T就是直接影响曝光总量的重要因素。曝光不足时，由于聚合不，在显影过程中，胶膜溶胀变软，导致线条不清晰甚至膜层脱落，造成膜与铜结合不良；显影不良：贴好的干膜后的覆铜箔层压板经曝光之后，还须经过显影机显影，将未曝光的干膜保持原成份，在显影机内与显影液发生下列反应。
（作者： 来源：）
