湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
辉光放电进行渗氮的工艺，与气体渗氮相比渗入速度快。由于离子氮化法利用了离子化了的气体的溅射作用，因而可显著地缩短处理时间(离子渗氮的时间仅为普通气体渗氮时间的1/3~1/5)。
辉
渗氮
湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
辉光放电进行渗氮的工艺，与气体渗氮相比渗入速度快。由于离子氮化法利用了离子化了的气体的溅射作用，因而可显著地缩短处理时间(离子渗氮的时间仅为普通气体渗氮时间的1/3~1/5)。
辉光放电的主要应用是利用其发光效应（如霓虹灯、日光灯）以及正常辉光放电的稳压效应。在阴-阳极间加上直流电压时，腔体内工作气体中剩余的电子和离子在电场的作用下作定向运动，于是电流从零开始增加；离子渗氮炉是将被处理的工件放置在真空容器中，在辉光放电条件下进行渗氮。当极间电压足够大时，所有的带电离子都可以到达各自电极，这时电流达到某一1大值(即饱和值);
两种靶电源不同之处：选用(工艺型)双极矩形波或正弦波中频靶电源，因其输出的电压和电流的占空比可以大范围连续调节，镀膜时电源的工艺参数适应范围比“经济型”中频靶电源要宽很多；适用于需要经常变化的磁控溅射镀膜工艺和不同材质的膜层。(经济型)双极性矩形波或正弦波中频靶电源的输出电压或电流的工艺调节范围偏窄，若相关参数选配合适，一般可用于磁控溅射镀膜工艺相对固定和单一的工业生产中，其优点是靶电源价格可以相对便宜。离子渗氮可以使渗氮的周期缩短60%~70%，简化工序，零件变形小，产量好，节约能源，无污染，是近年发展较快的热处埋工艺。
在射频辉光放电空间中，高频电子震荡已能产生足够的工作气体电离，对二次电子发射的依耐性减少了。射频磁控溅射气体放电时等离子阻抗低，工作气体击穿点火电压和维持异常辉光放电电压比中频靶电源时又要降低很多(点火电压只有直流放电等离子辉光放电时的五分之一~八分之一)。也无需特别的加热和保温设备，且可以获得均匀的温度分布，与间接加热方式棚比加热效率可提高2倍以上，达到节能效果，可大大降低处理成本。
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