多弧离子PVD镀膜设备
腔体结构： 立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统
材质用料： 腔体采用SUS304不锈钢材质
离子弧源： 依据设备大小不同配备多套弧电源系统
偏压电源： 配备大功率单级脉冲偏压电源
多弧靶材： 标配多套钛靶或不锈钢靶材
转动系统： 变频调速，公自转结合，可采用上传动或下传动方式
饰品纳米镀膜设备
多弧离子PVD镀膜设备
腔体结构： 立式前开门，卧式前开门，后置真空获得系统
材质用料： 腔体采用SUS304不锈钢材质
离子弧源： 依据设备大小不同配备多套弧电源系统
偏压电源： 配备大功率单级脉冲偏压电源
多弧靶材： 标配多套钛靶或不锈钢靶材
转动系统： 变频调速，公自转结合，可采用上传动或下传动方式
真空系统（装饰镀膜设备Decorative coating）：扩散泵（可选分子泵）+罗茨泵+机械泵+维持泵+深冷系统（可选）
饰品纳米镀膜设备
工艺特点
（1）广泛应用于金属涂层、陶瓷涂层、无机涂层材料等。
（2）在产量方面，从单件到大批量皆可。
（3）有质量优势，沉积温度低，薄膜成份易控，膜厚与淀积时间成正比，均匀性，重复性好，台阶覆盖性优良。
（4）工具涂层的生产效率不如PVD，具体取决于特定技术要求和辅助工艺。
化学气相沉积曾是真空技术广泛用于陶瓷沉积的种技术，特别是对工具涂层更是这样。
镀膜机工艺在太阳能运用方面的运用当需求有用地运用太阳热能时，就要思考选用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所导致的损耗较小的吸收面。太阳光谱的峰值大约在波长为2-20μm之间的红外波段。
PVD技术出现于，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的性和化学稳定性等优点。在高速具领域的成功应用引起了制造业的高度重视，人们在开发、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、陶瓷类刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。
与CVD工艺相比，PVD工艺处理温度低，在600℃以下时对刀具材料的抗弯强度无影响；薄膜内部应力状态为压应力，更适于对硬质合金精密复杂刀具的涂层；PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。
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