光学镀膜所触及的制造工艺是劳作和资本密集型的，并且非常耗时。影响镀膜本钱的因素包括被镀膜的光学件的数量，类型，尺寸，需求镀多少层膜以及光学件上需求镀膜的外表数量。镀膜选用的堆积工艺对镀膜本钱以及镀膜功能方面的影响也非常巨大。此外，在这之前还需求做大量的准备作业，以保证每个镀膜光学件的质量都能达到较高水平。
全电介质反射膜是建立在多光束干涉基础上的。与增透膜相反，在光学表面上
光学镀膜工艺
光学镀膜所触及的制造工艺是劳作和资本密集型的，并且非常耗时。影响镀膜本钱的因素包括被镀膜的光学件的数量，类型，尺寸，需求镀多少层膜以及光学件上需求镀膜的外表数量。镀膜选用的堆积工艺对镀膜本钱以及镀膜功能方面的影响也非常巨大。此外，在这之前还需求做大量的准备作业，以保证每个镀膜光学件的质量都能达到较高水平。
全电介质反射膜是建立在多光束干涉基础上的。与增透膜相反，在光学表面上镀一层折射率高于基体材料的镀膜，就可以增加光学表面的反射率。简单的多层反射膜是由高、低折射率的二种材料交替蒸镀而成的,每层膜的光学厚度为某一波长的四分之一。在这种条件下，参加叠加的各界面上的反射光矢量，振动方向相同。合成振幅随着薄膜层数的增加而增加。
原则上说，全电介质反射膜的反射率可以无限接近于1，但是薄膜的散射、吸收损耗限制了薄膜反射率的提高。迄今为止，激光反射膜的反射率虽然已超过99.9%，但有一些工作还要求它的反射率继续提高。应用于强激光系统的反射膜，则更强调它的抗激光强度，围绕提高这类薄膜的抗激光强度所开展的工作，使这类薄膜的研究更加深入。
PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。如PVD镀膜前处理不净、清洗不良、电解液成分失调及杂质污染、生产环境不良等。PVD镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。
PVD镀膜加工生产故障是每个PVD镀膜企业都会遇到的问题，排除故障是PVD镀膜技术人员的重要职责。PVD镀膜实践出真知，PVD镀膜生产的实践性很强。要在调控PVD镀膜生产的全过程中做到遇障不惊，PVD镀膜的途径就是在生产实践中摸爬滚打、坚韧实干善于思考，不断探索和积累等。
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