真空镀膜机真空器件的常用检漏方法真空镀膜机真空器件的常用检漏方法
依据电真空器材的结构特色及丈量精度要求，常用的有两种检漏办法，即氦罩法和喷吹法（这两种检漏办法具体介绍可见：氦罩法和喷吹法的氦质谱检漏仪检漏常见办法）。检漏时，先用氦罩法进行总漏率的测定，当总漏率超出答应值后再用喷吹法进行漏孔的认位。
氦罩法是被检件与检漏仪衔接抽真空到达检漏状况后，用一个充溢氦气的查验
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真空镀膜机真空器件的常用检漏方法
真空镀膜机真空器件的常用检漏方法
依据电真空器材的结构特色及丈量精度要求，常用的有两种检漏办法，即氦罩法和喷吹法（这两种检漏办法具体介绍可见：氦罩法和喷吹法的氦质谱检漏仪检漏常见办法）。检漏时，先用氦罩法进行总漏率的测定，当总漏率超出答应值后再用喷吹法进行漏孔的认位。
氦罩法是被检件与检漏仪衔接抽真空到达检漏状况后，用一个充溢氦气的查验罩，把被检件全体或部分的表面面包围起来，如图4所示。查验罩充氦时先将罩内空气排出再充氦，以确保罩内氦浓度尽可能挨近100百分之，被检件上任何地方有走漏。
检漏仪都会有漏率值改变，显示出漏率值。氦罩时刻也要继续3~5倍检漏仪呼应时刻。ASM192T2氦质谱检漏仪反应时刻小于0.5s,因而氦罩时刻30s即可。氦罩法可方便地测定被检件总漏率，不会漏掉任何一处漏点，但不能确认漏孔方位。
喷吹法是将被检件与仪器的真空体系相连，对被检件抽真空后用喷枪向漏孔处吹喷氦气。当有漏孔存在时，氦气就经过漏孔进入质谱仪被检测出，喷吹法弥补了氦罩法不能定位的缺点。
真空镀膜设备的相关特性是什么呢
真空镀膜设备的相关特性是什么呢？
1.真空镀膜设备沉积材料：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系.
2.真空镀膜设备节约金属材料：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的.
3.真空镀膜设备无环境污染：由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小。
离子镀膜设备的工作原理及操作方法
离子镀膜设备的工作原理及操作方法
目前商业上已有很精制的设备安装在显微镜下的载物台的位置上。溅射镀膜时，将抛光的试样安放在式样头具上，倾转到面对电子枪（阴极）的位置，调节溅射室中的气压，辉光放电，阴极溅射，反应溅射沉积。一定时间后，中断溅射，把溅射沉积的试样表面，转回到面对物镜的位置，观察试样表面的颜色，来评定沉积膜的厚度，当要求的颜色得到时，镀膜操作停止。
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