镀膜制造需要部分耗材1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用。2.TIO2颗粒。3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ。4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用。5.铜坩埚,需要根据机台配置选用。6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm。真空镀膜加工对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存
cvd化学气相沉积
镀膜制造需要部分耗材1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用。2.TIO2颗粒。3.晶振片Filtex 6MHZ或INFICON6MHZ。4.监控片BK7 Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用。5.铜坩埚,需要根据机台配置选用。6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm。真空镀膜加工对于高度不稳定的、对水蒸气敏感的表面，一般应贮存在真空干燥箱中。7.电子枪灯丝,需要根据机台配置选用。8.离子源,需要根据机台配置选用耗材。
Parylene是这些组装方式的防护材料，5微米厚就能耐1000V以上直流击穿电压，因此在微机电系统中，Parylene是一的电介质材料。同时，对传感器的防酸、碱和及对水汽和盐雾等恶劣环境有的阻隔防护能力。
Parylene活性分子的良好穿透能力在元件内部，底部、周围形成无气隙的防护层。优良的防潮、防化学品和耐溶剂性能优良的介电绝缘性能、微米级的精密制作、极薄的膜层仍具极优的电性能、物理机械性能和防腐蚀功能。
真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。实践证明，电子束钢带真空镀膜具有很多优点：（1）可选择的镀膜材料多而不受材料熔点限制。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
arylene符合ISO-10993生物试验要求
Parylene符合FDA G95-1
Parylene符合（RoHS）2002/95/EC
生物兼容性和生物稳定性
的防化学物、防潮、绝缘及防电子阻隔性能、较好的机械强度，且附着良好
微米级涂层厚度均匀可控，可控制厚度降低500A
干膜润滑性
优异的的疏水性能
良好光学性能
本身无毒，无副产物
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