多源有机无机蒸发系统多源有机无机热蒸发镀膜机销售
多源有机无机蒸发系统
想了解更多关于电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯，请持续关注本公司。
主要用途：
用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。
系统组成:
由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度
多源有机无机热蒸发镀膜机销售
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多源有机无机蒸发系统
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主要用途：
用于纳米级单层及多层金属膜、 半导体膜等新材料的制备。广泛应用 于大专院校的薄膜材料科研。
系统组成:
由真空室、蒸发源、样品台、 真空测量、膜厚测试、电控系统组成。
技术指标：
极限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S； 恢复真空时间：40分钟可达6.6×10 Pa
真空室：D形真空室，尺寸350× 380mm
样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；
电极：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜
样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃
4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套， 样品挡板（１套）
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。
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钙钛矿镀膜机介绍
主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。组水冷器蒸发电级，可长期平稳工作中，适配金属材料材料与有机化学材料的蒸发源设计方案，源间有避免交叉式环境污染挡板。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置，防止蒸发源被污染。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首,服务至上为宗旨。公司生产、销售电阻热蒸发镀膜产品,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！
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