基于氮化钛优良的导电性能，可做成各种电极以及点触头等材料。（9）氮化钛的超导临界温度较高，可作为优良的超导材料。（10）氮化钛的熔点高于大多数过渡金属氮化物，密度大多数金属氮化物，从而成为一种的耐火材料。氮化钛可以作为一种膜镀在玻璃上，在红外线反射率大于75%的情况下，当氮化钛薄膜厚度大于90nm时，能有效提高玻璃的保温性能。另外，调整氮化钛中氮元素的百分含量，可以改变氮化
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基于氮化钛优良的导电性能，可做成各种电极以及点触头等材料。
（9）氮化钛的超导临界温度较高，可作为优良的超导材料。
（10）氮化钛的熔点高于大多数过渡金属氮化物，密度大多数金属氮化物，从而成为一种的耐火材料。
氮化钛可以作为一种膜镀在玻璃上，在红外线反射率大于75%的情况下，当氮化钛薄膜厚度大于90nm时，能有效提高玻璃的保温性能。另外，调整氮化钛中氮元素的百分含量，可以改变氮化钛薄膜的颜色，从而达到理想的美观效果。 次数用完API KEY 超过次数限制
PVD的意思是“物理气相沉积”，这是指一种薄膜制备技术，该技术使用物理方法在真空条件下将材料沉积在要电镀的工件上。PVD涂层技术主要分为三类，真空蒸发涂层，真空溅射和真空离子涂层。对应于三类PVD技术，相应的真空镀膜设备还具有三种类型：真空蒸发镀膜机，真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。在过去的十年中，真空离子镀技术发展迅速，并且已成为当今zui的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD涂层是指真空离子涂层，PVD镀膜机通常是指真空离子镀膜机。 次数用完API KEY 超过次数限制
后处理，涂面漆。第三节溅射镀膜溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材料表面，使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸的过程称为溅射。被溅射的靶材沉积到基材表面，就称作溅射镀膜。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。近年发展起来的规模性磁控溅射镀膜，沉积速率较高，工艺重复性好，便于自动化，已适当于进行大型建筑装饰镀膜，及工业材料的功能性镀膜，及TGN-JR型用多弧或磁控溅射在卷材的泡沫塑料及纤维织物表面镀镍Ni及银Ag。第四节电弧蒸发和电弧等离子体镀膜这里指的是PVD领域通常采用的冷阴极电弧蒸发，以固体镀料作为阴极，采用水冷、使冷阴极表面形成许多亮斑，即阴极弧斑。弧斑就是电弧在阴极附近的弧根。 次数用完API KEY 超过次数限制
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