不能用金属盆)显像:膜面朝上放入感光板(双面板须悬空)每隔数秒摇晃容器或感光板，直到铜箔清晰且不再有绿色雾状冒起时即显像完成。此时需再静待几秒钟以确认显像完成。标准操作显像时间约1-2分钟，显影可在一般光线下进行，关键的就是要随时注意观察显影的进度，不可照搬显影时间。3.水洗:4.干燥及检查:为了确保膜面无任何损伤，能做到此步骤。即利用吹风机吹干，短路处请用小刀刮净，断线处用油性笔等修补。
干
曝光显影工艺
不能用金属盆)显像:膜面朝上放入感光板(双面板须悬空)每隔数秒摇晃容器或感光板，直到铜箔清晰且不再有绿色雾状冒起时即显像完成。此时需再静待几秒钟以确认显像完成。标准操作显像时间约1-2分钟，显影可在一般光线下进行，关键的就是要随时注意观察显影的进度，不可照搬显影时间。3.水洗:4.干燥及检查:为了确保膜面无任何损伤，能做到此步骤。即利用吹风机吹干，短路处请用小刀刮净，断线处用油性笔等修补。
干膜显影性不良，超期使用。上述已讲过光致抗蚀干膜，其结构有三部分构成：聚酯薄膜、光致抗蚀剂膜及聚乙烯保护膜。在紫外光照射下，干膜与铜箔板表面之间产生良好的粘结力，起到抗电镀和抗蚀刻的作用。图形电镀过程中，引起的渗镀的原因分析如下：图形转移是制造高密度多层板的关键控制点bai，也是技术难点，其质量的优劣直接影响多层板的合格率。
曝光不足时，由于聚合不，在显影过程中，胶膜溶胀变软，导致线条不清晰甚至膜层脱落，造成膜与铜结合不良；若曝光过度，会造成显影困难，也会在电镀过程中产生起翘剥离，形成渗镀。同时在批量生产时，还应该注意当紫外光管长期运行过程中，产生温升，热辐射量大，在底片下的干膜上发生类似与紫外线照射为类似作用，使干膜聚合，也称热聚合反应。为此，这就要求曝光机应有冷却装置。
照相底片反差不够。照相底片的质量好坏，可采用光密度表示：底片黑的部分光密度高；透明的部分光密度小，两者之间差值越大越好，即称之谓反差好。如果照相底片本身反差不够，会直接影响到曝光时间的控制。如果某些用于图形转移的阳片，不透明部分光密度不够高，直接影响到覆盖下的干膜也会发生明显的光聚合反应，而且产生较的余胶。所以，要严格控制照相底片的质量。
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