磁控溅射镀膜设备镀膜优势
磁控溅射镀膜机有很多种类型，有中频的，也有直流的。在生活中应用也是非常的广泛，如：手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、试听电子、工具、表壳、手机壳、五金等。它的优势也是非常的凸显.
磁控溅射镀膜设备配置了等离子体处理装置，磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致
大型磁控溅射镀膜设备
磁控溅射镀膜设备镀膜优势
磁控溅射镀膜机有很多种类型，有中频的，也有直流的。在生活中应用也是非常的广泛，如：手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、试听电子、工具、表壳、手机壳、五金等。它的优势也是非常的凸显.
磁控溅射镀膜设备配置了等离子体处理装置，磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好;该机实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。该设备主要广泛应用于电脑壳、手机壳、家用电器等行业，可镀制金属膜、合金膜、复合膜层、透明(半透明)膜、不导电膜、EMI电磁屏蔽膜等。
磁控溅射镀膜机将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一真空镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子贱出并部分离化沉积在基材成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其气化再沉积在基材上成膜，增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。
什么样的真空镀膜层比较好真空磁控溅射镀膜机的电气控制系统介绍
据了解，2012年真空镀膜设备达43亿，真空镀膜商场在敏捷扩大，一同也反映出咱们的物品的请求与质量越来越高，为满意消费者需求，许多需求对商品进行镀膜的厂家都购买了真空镀膜设备。真空镀膜设备镀膜细密，均匀，能够让厂商出产出来愈加美丽的，愈加经用的的商品来适合商场。
咱们判别一款镀膜设备的好坏首要是从以下几个方面来说判别的。个方面是设备镀膜是不是细密，是不是均匀。一个一款设备镀膜细密，均匀，那么毋庸置疑这款设备即是一款十分好的设备，一款能够遭到厂家期待的设备。镀膜细密，均匀的设备能够出产出来愈加美丽，愈加经用的商品，美丽的，经用的商品是消费者所喜爱的。已然消费者喜爱这类商品，那么厂家就会从商品中获利。厂家就能够商品中获利，从镀膜细密，均匀的商品中获利，就自然会愈加的注重镀膜细密，均匀的出产。会投入愈加的精力在出产镀膜细密，均匀的商品上。而公司要出产出来镀膜细密，均匀的商品就需求有一个能够镀膜细密，均匀的设备。所以从这一点上就能够看出好的设备，镀膜细密，均匀的设备才是厂家所需求的。
镀膜有啥准则？
A：取稳辟险宁可做欠好不行出问题
B：先轻后重细盘可抛好就不必粗盘
C：质效并重保质保量下合理优化计划
D：主次分明相对状况下辨明主次方针清晰
E：不行胡来办法窍门很首要
真空电镀设备的监控方法
真空电镀设备的监控方法
1、目视监控：使用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有一定的误差，所以不是很准确，需要依靠经验。
2、极值监控法：当膜厚度增加的时候其反射率和穿透率会跟着起变化，当反射率或穿透率走到极值点的时候，就可以知道镀膜之光学厚度ND是监控波长（入）的四分之一的整倍数。但是极值的方法误差比较大，因为当反射率或者透过率在极值附近变化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有变化。反映比较灵敏的位置在八分之一波长处。
3.定值监控法：此方法利用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为停止镀膜点。
镀膜设备工艺要求
镀膜设备工艺要求：
真空度不得103PA，避免呈现褐色条纹或铝层厚度不均表象;操控好体系张力，敞开冷却体系，避免薄膜受热呈现拉伸变形;准确操控卷取速度(280～320m/min)、送铝速度(0.4～0.7m/min2mm铝丝)及蒸腾舟加热电流，以取得商品请求的铝层厚度(100～300A°);可预先在薄膜上涂布必定干量的底胶，并充沛枯燥，再经真空镀铝，可进步铝层与薄膜的结合力。然后在铝膜上涂布必定量的维护树脂，避免铝层氧化蜕变。经此技术构成的镀铝薄膜，耐摩擦，且不易蜕变。
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