用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（主要成分：二氧化硅），生成气态的反应方程式如下：SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2H2O(l)生成的SiF4可以继续和过量的HF作
氢氟酸价钱
用HF溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（主要成分：二氧化硅），生成气态的反应方程式如下：SiO2(s) + 4 HF(aq) → SiF4(g) + 2H2O(l)生成的SiF4可以继续和过量的HF作用，生成：SiF4(g)+2HF(aq)=H2[SiF6](aq)，是一种二元强酸。正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。公司从事化工原料、危险化学品、硫酸、盐酸、氢氧化钠、氢氟酸、硝酸等的、仓储、运输一站式服务，公司自有危货运输罐车，危险货物运输货箱车。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。
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祁县汇鸿源化工有限公司从事化工原料、危险化学品、硫酸、盐酸、氢氧化钠、氢氟suan、硝suan等的、仓储、运输一站式服务，公司自有危货运输罐车，危险货物运输货箱车。
氟气与氢气混合后立刻爆的炸，生成F2(g)+H2(g)=2HF(g)其实关于氢氟酸，它在水溶液中有两个平衡：1HF=H+ F- k1=7.2*10-42.HF+F-=HF2- k2=5.2此时随着浓度增大（大于5mol），HF已经是相当强的强酸了。而与此同时氢氟酸的出口量却连年大幅增长，出口量由2000年1。——汇鸿源化工
【汇鸿源化工】在无水氢氟酸环境下如何选择设备
的是碳钢：根据有关文献，强度应不大于480MPa。耐腐蚀性A516>A3>20g>45g>16MnR。跟含硅、锰量有关。
一般用于温度65度的液相氢氟酸场合。超过则腐蚀迅速增强。根据其对硅、锰敏感的特点，制造时必须控制含硅、锰量，即控制焊材含硅、锰量（弧焊丝含硅量很小），控制夹渣（焊渣中含大量硅），清理干净焊渣。某设计院规定焊缝及热影响区硬度不大于HB234(HR22)。同时，考虑使用时勿使粗糙处藏料而致腐蚀，宜表面光滑，结构无积液处，圆滑过渡。再考虑流速对氟化铁膜的冲刷作用，限制氢氟酸流速一般在小于1m/s，在0.5m/s以下，氢氟酸进出口管径一般大于等于DN50。氢氟酸灼伤后的中和方法不少，总的原则是使用一些可溶性钙、镁盐类制剂，使其与氟离子结合形成不溶性氟化钙或氟化镁，从而使氟离子灭活。应力腐蚀也是很重要的破坏形式，所以设备必须整体消应力处理。操作上，要特别注意温度和浓度。浓度宜保持在99.5%以上，尽量减少含水量，降低腐蚀性。
注：该文献中的A516含硅量很低。
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