什么是电光调制器
电光调制器是利用某些电光晶体，如铌酸锂晶体(LiNb03)、稼晶体(GaAs)和钽酸锂晶体(LiTa03)的电光效应制成的调制器。电光调制器的原理要用激光作为传递信息的工具,首先要解决如何将传输信号加到激光辐射上去的问题,我们把信息加载于激光辐射的过程称为激光调制,把完成这一过程的装置称为激光调制器。电光效应即当把电压加到电光晶体上时，电光晶体的折射率
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什么是电光调制器
电光调制器是利用某些电光晶体，如铌酸锂晶体(LiNb03)、稼晶体(GaAs)和钽酸锂晶体(LiTa03)的电光效应制成的调制器。电光调制器的原理要用激光作为传递信息的工具,首先要解决如何将传输信号加到激光辐射上去的问题,我们把信息加载于激光辐射的过程称为激光调制,把完成这一过程的装置称为激光调制器。电光效应即当把电压加到电光晶体上时，电光晶体的折射率将发生变化，结果引起通过该晶体的光波特性的变化，实现对光信号的相位、幅度、强度以及偏振状态的调制。电光调制器的基础是电光效应。根据电光晶体的折射率变化量和外加电场强度的关系，电光效应可分为线性电光效应(泡克耳斯效应)和二次电光效应(克尔效应)。因为线性电光效应比二次电光效应的作用效果明显，因此实际中多用线性电光调制器对光波进行调制。线性电光调制器可分为纵向的和横向的。在纵向的调制器中，电场平行于光的传播方向，而横向调制器的电场则垂直于光传播的方向
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电光调制器的原理
电光调制器的基础是电光效应。按调制的性质而言,激光调制与无线电波调制相类似,可以采用连续的调幅,调频,调相以及脉冲调制等形式,但激光调制多采用强度调制。根据电光晶体的折射率变化量和外加电场强度的关系，电光效应可分为线性电光效应(泡克耳斯效应)和二次电光效应(克尔效应)。因为线性电光效应比二次电光效应的作用效果明显，因此实际中多用线性电光调制器对光波进行调制。线性电光调制器可分为纵向的和横向的。在纵向的调制器中，电场平行于光的传播方向，而横向调制器的电场则垂直于光传播的方向。
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电光调制器的设计与选择
调制晶体对电光调制的效果影响显著，在选择晶体时应注意以下几点：光学性能好，折射率均匀，吸收色散损耗小，透明度高，电光系数大，物理性能优越等等。电光调制器的物理基础光波在介质中的传播规律受到介质折射率分布的制约，而折射率的分布又与其介电常量（电容率）密切相关。目前较常用的晶体材料包括铌酸锂和KDP类晶体，由于KDP类晶体的物理性能不佳，容易发生潮解，因此其调制性能往往受到环境限制，而铌酸锂晶体则具有优越的透光性和物理性能，是电光调制晶体设计的理想材料。
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电光调制器的选择应考虑什么？
电光调制器的选择应考虑温度补偿、压电谐振、光束发散角等因素。晶体折射率可用施加电场E的幂级数表示，即或写成式中，γE是一次项，由该项引起的折射率变化，称为线性电光效应或泡克耳斯(Pockels)效应。温度补偿方面，可采用两个长度相等的晶体中间插入一块半波长片或采用两个长度相等的晶体的外加电场轴相互垂直的结构的方法来解决;压电谐振方面，可采用金属或树脂加固晶体的方法来抑制谐振;光束发散方面应将发散角控制为调直机孔径的三分之二，来减少发散角。
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