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主营产品:真空镀膜设备,中频离子镀膜设备,多弧离子镀膜设备等
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AR镀膜机报价 至成镀膜机量身订制

DLC真空镀膜设备的分类与应用 金刚石膜(DLC)真空镀膜设备是在塑料玻璃金属等表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的设备,DLC真空镀膜设备镀出的膜层牢固且细密环保,我们日常生活中都离不开DLC真空镀膜设备。 金刚石膜(DLC)真空镀膜设备主要是(集)直流磁控溅射,中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体,结合线性离化源及脉冲偏压镀膜可使沉积颗
AR镀膜机










DLC真空镀膜设备的分类与应用




金刚石膜(DLC)真空镀膜设备是在塑料玻璃金属等表面进行蒸发镀铝、鉻、一氧化硅的设备,DLC真空镀膜设备镀出的膜层牢固且细密环保,我们日常生活中都离不开DLC真空镀膜设备。

金刚石膜(DLC)真空镀膜设备主要是(集)直流磁控溅射,中频溅射和电弧离子蒸发三种技术融合一体,结合线性离化源及脉冲偏压镀膜可使沉积颗粒细化膜层各项性能提高,能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。

经至成真空科技技术人员多年专注研发,通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统,开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统,使镀膜层附着有力致密、从复度一致性好等特点;




解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求起硬的刀具、模具等。镀制TiN、TiCN、CrN、TiALN、TiNbN、TiCrN、TiNC等。

DLC镀膜设备技术作为一种产生特定膜层的技术,在现实生产生活中有着广泛的应用。DLC镀膜设备技术有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。

DLC镀膜设备是在中间设置真空室,在真空室的左右两侧设置左右大门,蒸发DLC镀膜设备而在其中配装蒸发装置和磁控装置,蒸发DLC镀膜设备可在该双门上预留该两装置的接口,以备需要时换装。

金刚石膜(DLC)真空镀膜设备应用于五金件、玻璃工艺品、陶瓷工艺品等,如手表、手机金属壳、洁具、刀具、模具、电子产品、水晶玻璃等。





真空镀膜机设备真空镀膜机系统特点


真空镀膜机在等离子体束溅射中,溅射离子均匀刻蚀靶面,并且不会使靶面产生氧化。与磁控溅射相比,其中的等离子体束是由射频等离子体源产生的,磁场的作用则是使等离子体束会聚并偏转至靶面,因此,虽然等离子体束溅射镀膜系统内也有磁场,但其磁场却并不控制影响溅射,这也摒弃了磁控溅射中由磁场不均匀带来的“磁控”的缺点。在溅射完成后,所得的靶材利用率可高达90%以上。

真空镀膜机即分别进行磁控溅射和等离子体束溅射之后靶面刻蚀的对比图。由于靶材的利用率大幅度提高,也解决了磁控溅射中所难以克服的缺点,即靶中的毒导致的刻蚀不均匀

真空镀膜机此外,磁控溅射由于背面磁铁磁场不均匀而产生溅射跑道,非磁场约束区很容易产生氧化,因此很难沉积铁磁性材料,而等离子体束溅射中由于不用磁铁作为等离子体约束,能够进行铁磁性材料的镀膜,并且可以使用很厚的靶材,图3中实验金属钴的厚度即为6mm。对于铁、镍、铬以及铁磁性化合物,等离子体束溅射也都具有很高的溅射速率。

应用该项镀膜技术的系统还有一个优点,当将电磁线圈的极性反接时,由于磁场的方向产生了变化,等离子体束会在磁场的作用下轰击基片,从而对基片产生清洗作用,如图4所示。这实际上可以使得应用该项技术的镀膜机省略常规镀膜机的清洗用离子源。


多功能真空镀膜机是怎么构成的?




多功能真空镀膜机是磁控溅射、多弧离子、蒸发镀膜的混合性设备,是在多弧离子镀膜机的基础上装备圆柱靶或平面磁控靶,设备具有离子镀的高离化率、高堆积速度的特色,一起也具有磁控溅射低温、安稳的长处,合适镀各种复合膜。

多功能真空镀膜机--磁控、中频、多弧离子镀膜具体介绍:

①蒸腾与磁控溅射的混合设备:多功能,合适量产,适应性强。

②磁控溅射与多弧离子镀的混合运用:多弧能够进步炮击清洗质量,添加薄膜与基材结合力。与磁控溅射一起作业可镀制复合膜(高能离子源清洗活化,成膜速度快)。




③多对中频磁控溅射靶与柱弧离子镀的混合运用:中频靶更安稳(如Al),离化率高、堆积速率快、成膜均匀。中频反应溅射如镀制Si02、TiO2,一起镀多层不一样原料簿膜。

④射频、直流、中频、柱弧的混合运用:射频能够直接镀制绝缘保护膜如SiO2/Ag/SiO2

⑤圆柱弧、中频、多弧的混合运用:柱弧确保高离化率的一起,削减大颗粒堆积的份额,到达有好的结合力又有较好表面光洁度的作用。多功能真空镀膜机适用中高层次商品如表带、表壳、眼镜框、手机壳、高尔夫球具、卫浴洁具、饰品等。





真空PVD镀膜涂层工艺冷却如何进行?




1.高阀关闭,真空计关闭,真空室与泵组隔离;

2.当操作人员按下N2vent按钮,预先接好的氮气会通过N2充气阀充入真空室,当真空室内的压力达到压力开关预设的压力时,N2充气阀关闭。

3.真空室内充入了大量N2,真空度很低,更加有利于热传导,所以降温速度比不充冷却N2时快很多,缩短冷却时间,提高生产效率,实际冷却时间可由原来的90分钟缩短为60分钟。

4.由于氦气的热传导率更高,所以充入冷却氦气比氮气降温速度更快,但是成本也更高。

5.国外设备冷却程序,通过冷却气体的循环冷却,能缩短冷却时间50%。




为什么要进行压升率测试?

真空环境条件是影响终涂层质量重要的因素。镀膜前,必须进行压升率测试,以保证真空环境条件满足镀膜标准。

怎样进行压升率测试?

在我们的自动镀膜工艺中,压升率测试是自动进行。当真空室内真空度达到工艺设定的本底真空后,进入压


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