蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应：2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像
凹凸面曝光显影工厂
蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用bai化学反应或物理du撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理zhi是氧化还原反应中的置换dao反应：2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。
1. 感光胶的原因bai。可能是时间久了感du光胶光敏剂失效了，也可能是兑感zhi光胶的步骤出现问题，致使不能很好的发生dao光敏反应。更换新感光胶2. 菲林底版划伤，原本有画面黑色的地方，成透明的了。修补更换菲林。3. 网版被曝光的另一面，也就是印刷时倒入油墨的一面，用水冲的太厉害。应该用高压水枪均匀冲洗网版，曝光面的另一面不能冲太久。我觉感光胶问题
负性胶与正性胶性能特征进行了比较，结论概括如下：
1、曝光显影过程不同
正性胶在曝光区间显影，负性胶则相反。
2、形成的轮廓不同
负性胶和正性胶边界漫射光形成的轮廓不同，负性胶由于曝光区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图象为上宽下窄的图像；而正性胶相反，为下宽上窄的图像。
3、显影剂的溶液不同
正胶溶于强碱，显影剂采用中型碱溶液，而是负性胶多采用有机溶液，如二甲本溶液。
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