钙钛矿镀膜设备
以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！
设备用途 ：
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
钙钛矿蒸发镀膜机销售
钙钛矿镀膜设备
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设备用途 ：
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成：
该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。
1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。
2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；
3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套
4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；
5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。
6、膜厚控制仪：测量范围0-999999
钙钛矿镀膜机介绍
主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置，防止蒸发源被污染。升华后的二聚体气体进入裂解腔，在680℃左右的温度下，二聚体的分子键被断开，形成具有两个悬空键的活性Parylene单体。
沈阳鹏程真空技术有限责任公司以诚信为首,服务至上为宗旨。公司生产、销售电阻热蒸发镀膜产品,公司拥有强大的销售团队和经营理念。想要了解更多信息，赶快拨打图片上的热线电话！
电阻蒸发镀膜机介绍
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。
在高真空下，采用电阻式蒸发原理，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点1500oC的金属薄膜的制备。
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