经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
原因
铭牌曝光显影价格
经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
原因可能有如下几个方面：
1，菲林颜色过浅，底片深色遮盖部分被zhi微弱紫外线照射，发生过微弱的聚合反应。
2，如果用干膜的，那么可能膜过厚，如果用的液态感光油墨，则可能油墨厚度没调整好，或者涂布机刀没调整好。
3，批量生产前没有做好前置化验，没做显影点测试，则可能因为温度过低，显影液浓度不够，或者速度过快而造成显影不净。
比较适宜的显影温度范围是20~25℃。显影时间对PS版的显影质量有直接的影响，显影时间不足，非图像部分的感光层不能溶解，会引起版面起脏。显影时间越长，显影就越，但显影时间过长，对印版上网点曝光虚边过渡的侵蚀作用也越深人，版面上的细小网点容易丢失而如果显影液的浓度偏低，碱性过弱，会使显影速度过慢,容易出现显影不、版面起脏和暗调小白点糊死等现象。
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