至成真空技术工程有限公司是一家研究制造生产真空镀膜设备及其它真空相关设备的高新科技企业。公司本着“专注研究镀膜工艺，提供的产品及服务”的理念，赢得国内外客户的满意及信任，并成功打开国外市场。我们将会秉承客户的认可，将镀膜机研发事业推向新的高峰。
本公司制造的真空镀膜设备系列：电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、多
真空镀膜设备厂家
至成真空技术工程有限公司是一家研究制造生产真空镀膜设备及其它真空相关设备的高新科技企业。公司本着“专注研究镀膜工艺，提供的产品及服务”的理念，赢得国内外客户的满意及信任，并成功打开国外市场。我们将会秉承客户的认可，将镀膜机研发事业推向新的高峰。
本公司制造的真空镀膜设备系列：电阻蒸发真空镀膜设备、电子束蒸发真空镀膜设备、磁控溅射真空镀膜设备、多弧离子真空镀膜设备、多功能真空镀膜设备以及真空焊接设备等。各类真空镀膜设备广泛用于家电电器、钟表、玩具、车灯灯罩、手机、工具、陶瓷、瓷砖、塑料、玻璃、五金、光学、电子等高科技产业方面，已成功的为客户开发出满足各种不同要求的镀膜工艺方案。
磁控溅射镀膜设备镀膜优势
磁控溅射镀膜机有很多种类型，有中频的，也有直流的。在生活中应用也是非常的广泛，如：手提电脑、手机壳、电话、无线通讯、试听电子、工具、表壳、手机壳、五金等。它的优势也是非常的凸显.
磁控溅射镀膜设备配置了等离子体处理装置，磁控溅射阴极和电阻蒸发装置等，设备沉积速率快，镀层附着力好，镀层细腻致密，表面光洁度高，且均匀性一致性良好;该机实现镀膜工艺全自动化控制，装载量大，工作可靠，合格率高，生产成本低，绿色环保。该设备主要广泛应用于电脑壳、手机壳、家用电器等行业，可镀制金属膜、合金膜、复合膜层、透明(半透明)膜、不导电膜、EMI电磁屏蔽膜等。
磁控溅射镀膜机将磁控溅射技术和真空蒸发技术结合在同一真空镀膜设备里，既利用磁控溅射阴极辉光放电将靶材原子贱出并部分离化沉积在基材成膜，同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料熔融并让其气化再沉积在基材上成膜，增加了设备的用途和灵活性。该设备应用于手机壳等塑料表面金属化，应用于不导电膜和电磁屏蔽膜沉积。
镀膜设备工艺要求
镀膜设备工艺要求：
真空度不得103PA，避免呈现褐色条纹或铝层厚度不均表象;操控好体系张力，敞开冷却体系，避免薄膜受热呈现拉伸变形;准确操控卷取速度(280～320m/min)、送铝速度(0.4～0.7m/min2mm铝丝)及蒸腾舟加热电流，以取得商品请求的铝层厚度(100～300A°);可预先在薄膜上涂布必定干量的底胶，并充沛枯燥，再经真空镀铝，可进步铝层与薄膜的结合力。然后在铝膜上涂布必定量的维护树脂，避免铝层氧化蜕变。经此技术构成的镀铝薄膜，耐摩擦，且不易蜕变。
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