激光打标机中的聚焦镜是一个非常重要的重要配件之一，目的是将激光在整个工件标刻平面形成聚焦，从而提高边缘光束入射到探测器的能力。
其性能指标主要有以下几条：
1.扫描范围。镜头能扫描到的面积越大，当然越受使用者的欢迎。但是如果一味的增加扫描面积，会带来很多的问题。如光点变粗，失真加大等等。
2.焦距（跟工作距离有一定关系，但是不等于工作距离）。a.扫描范围跟场镜
c02激光打码机
激光打标机中的聚焦镜是一个非常重要的重要配件之一，目的是将激光在整个工件标刻平面形成聚焦，从而提高边缘光束入射到探测器的能力。
其性能指标主要有以下几条：
1.扫描范围。镜头能扫描到的面积越大，当然越受使用者的欢迎。但是如果一味的增加扫描面积，会带来很多的问题。如光点变粗，失真加大等等。
2.焦距（跟工作距离有一定关系，但是不等于工作距离）。a.扫描范围跟场镜焦距成正比——扫描范围的加大，必然导致工作距离的加大。工作距离的加长，必然导致激光能量的损耗。b.聚焦后的光斑直径跟焦距成正比。2、通过激光光能导致表层物质的化学物理变化而'刻'出所需图案文字。这意味着当扫描面积达到一定的程度后，得到的光点直径很大，也就是说聚得不够细，激光的功率密度下降非常快（功率密度跟光斑直径的2次方成反比），不利于加工。c.由于F-Theta场镜是利用的y’=f*θ的关系来工作的，而实际的θ和tgθ的值还是有区别的。而且随着焦距f的加大，失真程度将越来越大。
3.工作波长。目前市场上使用的多半是1064nm和10600nm两种。但是随着将后来激光器的发展，532nm和355nm及266nm的场镜也会有相应的应用。
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聚焦系统的作用是将平行的激光束聚焦于一点。主要采用f-θ透镜，不同的f-θ透镜的焦距不同，打标效果和范围也不一样，光纤激光打标机选用进口聚焦系统，其标准配置的透镜焦距f=160mm，有效扫描范围Φ110mm。用户可根据需要选配型号的透镜。按照激光器类型可划分为光纤激光打标机、CO2激光打标机、半导体激光打标机等。 可选配的F-θ透镜有：f=100mm，有效聚焦范围Φ65mm。 f=160mm，有效聚焦范围Φ110mm。
激光打标机（半导体）调光步骤：
一步：调整红光的目的是红光水平无歪斜地打在小振镜片的中心;
二步：调整激光腔的目的使红光穿过晶体的两个端面正中心，从而保证两个端面的反射光与入射光重合在一起；
三步：调整半反镜的目的使红光穿过半反镜的中心，反射光与入射光重合；
四步：调整全反镜的目的使红光穿过全反镜的中心，反射光与入射光重合；
五步：调整扩束镜的目的使红光穿过两个镜片的正中心，保证两镜片的反射光重合，且与入射光重合；
六步：调整Q开关的目的使激光穿过石英晶体的两端面中心，保证两端面的反射光重合，并且与入射光重合；至此，光路调整完毕，开机上电，He-Ne的光轴与晶体平行度较好，此时应有YAG激光输出，再用倍光片观察绿光，并仔细调整全反镜片和半反镜片，使激光光斑为圆状。光斑不圆，则需重新进行调整。光斑较圆，绿光亮,分布均匀即为l好模式，此时，激光输出质量l好，能量l大。另一方面，Q调制光纤激光器的脉冲能量高达2mJ，平均功率200W，能够提供高峰值功率和ns级脉冲，可用于绝大多数材料的浅层打标和深层雕刻处理。
第七步：调整聚焦镜目的：使激光穿过聚焦镜片的正中心。
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激光打标仪的冷却系统循环水冷却器按其功能来分，有非制冷型和制冷型两种，制冷循环水冷却器根据其工作方式不同，又可分为启停式和非启停式两种。其共同原理是使用温度控制器进行温度控制，通过压缩机进行制冷，再与水进行热交换，使水的温度降低。非制冷型的作用只能是用来降温，一般不能控温，且水温的高低取决于所放置位置的环境温度。打黑体用5-50K,范围14K左右)5、当激光电源READY灯亮时,按激光电源RUN按钮点亮激光灯(当电流显示为6。由于靠风扇把水吹到散热器上来实现降温，因而仪器水路中水温不可能环境温度。所以非制冷型循环水冷却器一般适用于对水温控制要求不高。
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