将纳米氮化钛添加到TiN/Al2O3复相纳米陶瓷中，通过各种方法（如机械混合法）等将其混合均匀，得到的这种含有纳米氮化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。（6）在镁碳砖中添加一定量的TiN，能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。（7）氮化钛是一种优良的结构材料，可用于喷汽推进器以及火箭等。在轴承和密封环领域也多用氮化钛合金，凸显了氮化
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将纳米氮化钛添加到TiN/Al2O3复相纳米陶瓷中，通过各种方法（如机械混合法）等将其混合均匀，得到的这种含有纳米氮化钛颗粒的陶瓷材料内部便形成导电网络。这种材料可作为电子元件应用于半导体工业中。
（6）在镁碳砖中添加一定量的TiN，能够使镁碳砖的抗渣侵蚀性得到很大程度的提高。
（7）氮化钛是一种优良的结构材料，可用于喷汽推进器以及火箭等。在轴承和密封环领域也多用氮化钛合金，凸显了氮化钛优异的应用效果。 次数用完API KEY 超过次数限制
PVD涂层（离子涂层）技术的具体原理是在真空条件下使用低压，大电流电弧放电技术，利用气体放电使目标材料蒸发并使气化的物质和气体电离，并利用电场加速功能，将蒸发的物质及其反应产物沉积在工件上。PVD涂膜层的特性，采用PVD涂膜技术镀膜的膜层具有高硬度，高性（摩擦因数），良好的耐腐蚀性和化学稳定性的特点，并且该膜具有更长的寿命。同时，薄膜可以大大改善工件的外观和装饰性能。可通过PVD涂层电镀的薄膜类型，PVD涂层技术是一种环保的表面处理方法，可以真正获得微米级涂层而无污染。 次数用完API KEY 超过次数限制
在ji小空间的电流密度极高，弧斑尺寸ji小，估计约为1μm～100μm，电流密度高达l05A／cm2～107A／cm2。每个弧斑存在极短时间，爆发性地蒸发离化阴极改正点处的镀料，蒸发离化后的金属离子，在阴极表面也会产生新的弧斑，许多弧斑不断产生和消失，所以又称多弧蒸发。zui早设计的等离子体jia速器型多弧蒸发离化源，是在阴极背后配置磁场，使蒸发后的离子获得霍尔(hall)jia速xiao应，有利于离子增大能量轰击量体，采用这种电弧蒸发离化源镀膜，离化率较高，所以又称为电弧等离子体镀膜。 次数用完API KEY 超过次数限制
在飞机防护涂层方面飞机的钛合金紧固件，原来采用电镀方法镀镉。但在镀镉中含有氢，所以在飞行过程中，受到大气、海水的腐蚀，镀层上容易产生“镉脆”，甚至引起“空难”。1964年，采用离子镀方法在钛合金紧固件上镀铝，解决了飞机零件的“镉脆”问题。在离子镀技术中，由于给工件施加负偏压，可以形成“伪扩散层”、细化膜层组织，因此，可以显著提高膜层的耐腐蚀性能。在光学仪器中人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。 次数用完API KEY 超过次数限制
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