在显影加工过程中,曝光的卤化银以显影中心作为电极,与显影剂发生氧化还原反应,全部还原成金属银原子,形成可见的金属银影像。为曝光部分的卤化银通过定影过程,与定影剂发生反应,从乳剂层中溶解,形成稳定的可见影像。在对实际景物拍摄时,胶片曝光量多的部位,形成的金属银多,致黑程度大,影像密度高;曝光量少的部位,形成的金属银少,致黑程度小,影像密度低。得到的影像与实际景物的明暗程度相反,即得到负像。
在安全灯
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在显影加工过程中,曝光的卤化银以显影中心作为电极,与显影剂发生氧化还原反应,全部还原成金属银原子,形成可见的金属银影像。为曝光部分的卤化银通过定影过程,与定影剂发生反应,从乳剂层中溶解,形成稳定的可见影像。在对实际景物拍摄时,胶片曝光量多的部位,形成的金属银多,致黑程度大,影像密度高;曝光量少的部位,形成的金属银少,致黑程度小,影像密度低。得到的影像与实际景物的明暗程度相反,即得到负像。

在安全灯的条件下,调好曝光时间,将相纸乳剂面向上,放入放大尺板夹中,按下曝光按钮,对相纸进行曝光;将曝光后的相纸取出,放入 D-72 显影液中进行显影,显影时,不断进行搅拌,待影像层次全部显出后,显影完毕;将显影完毕的相纸取出,在停显液中停显5~10秒;将停显完毕的相纸放入柯达 F-5 酸性定影液中定影,除去未曝光部分的卤化银颗粒,时间约 5~10 分钟;将定影完毕的相纸取出,用清水冲洗,以除去相纸中残余的加工液;将清洗干净的照片,影像面向下贴在上光机的上光板上,放下帆布盖,用上光辊将相片与上光板贴紧,烘干。
正胶显影:正性光刻i胶的曝光区的光刻胶在显影液中溶解,在光刻胶上形成三维图形。
负胶显影:在负性光刻胶的非曝光区的光刻胶在显影液中溶解,在光刻胶上形成三维图形。
正胶具有很好的对比度,所以生成的图形具有良好的分辨率,其他特性如,台阶覆盖好、对比度好;粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
负胶的特性为,具有良好的粘附能力和阻挡作用、感光速度快;显影时发生变形和膨胀,所以只能用于2μm的分辨率。

蚀刻:蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类。
这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案,使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在盐酸或者肖酸溶液中,直至其暴露的区域被刻蚀到所需的深度。之后将抗蚀层清除,就可展现出蚀刻的成品样子。烫金或者发黑都可以被用于突出图案。金属蚀刻制品上的图案往往比传统雕刻更方便而代价更少。

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