离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。
全SUS304不锈钢机身，隐藏式双层冷却水套设计
合理配备多套全新研制的离子弧源，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性
采用多路进气系统，精准控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。
装载大功率脉冲偏压
镀膜设备生产
离子镀是在真空蒸发镀和溅射镀膜的基础上发展起来的一种镀膜技术，将各种气体放电方式引入到气相沉积领域，整个气相沉积过程都是在等离子体中进行的。
全SUS304不锈钢机身，隐藏式双层冷却水套设计
合理配备多套全新研制的离子弧源，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性
采用多路进气系统，精准控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。
装载大功率脉冲偏压电源，极大提高电粒子能量，从而获得的膜层结合力和光洁度
采用工艺制造，精益求精，通过欧盟CE和ISO质量管理体系认证；
.真空蒸镀
真空蒸镀是真空条件下在1.33x10-3至1.33x10-4Pa的压力下，用电子束等热源加热沉积材料使之蒸发，蒸发的原子或分子直接在注塑加工件表面形成沉积层。但对于难熔的金属碳化物和氮化物进行直接蒸发是有困难的，并且有使化合物分解的倾向。为此，开发了引入化学过程的反应蒸镀，例如，用电子枪蒸发钛金属，并将少量和等反应气体导入蒸发空间，使钛原子和反应气体原子在工件表面进行反应，沉积TiC涂层。
真空蒸镀多用于透镜和反射镜等光学元件、各种电子元件、塑料注塑加工制品等的表面镀膜，在表面硬化方面的应用不太多。
在过去的几十年中，考虑到计算机数控（CNC）加工工艺的强劲发展，PVD沉积技术的发展基本上集中在工具的涂层上，因为已经出现了新的加工方法。
PVD技术是一种薄膜沉积工艺，其中涂层在原子上逐个原子生长。PVD需要从通常称为目标的固体源中雾化或汽化材料。薄膜通常具有与几个微米的薄膜一样薄的厚度，该厚度与某些原子层一样薄。该过程导致表面和基板与沉积材料之间的过渡区的特性改变。另一方面，膜的性质也可受基材的性质影响。
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