较早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，蚀刻更是不可或缺的技术。
曝光：指在摄影过程中进入镜头照射在感光元件上的光量，由光圈、快门、感光度的组合来控制。通常是指使感光纸或摄影胶片感光，摄影感光材料的感光。
从光能量的定义公式可知，总曝光量E是光强度I和曝光时间T的乘积。若光
圆弧面曝光显影抛光
较早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版，也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板，铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工；经过不断改良和工艺设备发展，蚀刻更是不可或缺的技术。
曝光：指在摄影过程中进入镜头照射在感光元件上的光量，由光圈、快门、感光度的组合来控制。通常是指使感光纸或摄影胶片感光，摄影感光材料的感光。
从光能量的定义公式可知，总曝光量E是光强度I和曝光时间T的乘积。若光强度I不变，则曝光时间T就是直接影响曝光总量的重要因素。曝光不足时，由于聚合不，在显影过程中，胶膜溶胀变软，导致线条不清晰甚至膜层脱落，造成膜与铜结合不良；显影不良：贴好的干膜后的覆铜箔层压板经曝光之后，还须经过显影机显影，将未曝光的干膜保持原成份，在显影机内与显影液发生下列反应。
负性胶与正性胶性能特征进行了比较，结论概括如下：
1、曝光显影过程不同
正性胶在曝光区间显影，负性胶则相反。
2、形成的轮廓不同
负性胶和正性胶边界漫射光形成的轮廓不同，负性胶由于曝光区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图象为上宽下窄的图像；而正性胶相反，为下宽上窄的图像。
3、显影剂的溶液不同
正胶溶于强碱，显影剂采用中型碱溶液，而是负性胶多采用有机溶液，如二甲本溶液。
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