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局部镀银优选企业“本信息长期有效”

电镀基础知识:影响镀层烧焦的因素 主盐浓度过低 对于氯化甲镀锌、光亮酸铜、镀镍等简单盐电镀,当主盐浓度过低时,镀层易烧焦。原因是:(1)主盐浓度过低时,阴极界面液层中主盐浓度本身很低,电流稍大,放电后即缺乏金属离子,H+易乘机放电;(2)镀液本体的主盐浓度低,扩散与电迁移速度都下降,阴极界面液层中金属离子的补充速度也低,浓差极化过大。 配合物电镀则较复杂。若单独提高
局部镀银






电镀基础知识:影响镀层烧焦的因素
主盐浓度过低

对于氯化甲镀锌、光亮酸铜、镀镍等简单盐电镀,当主盐浓度过低时,镀层易烧焦。原因是:(1)主盐浓度过低时,阴极界面液层中主盐浓度本身很低,电流稍大,放电后即缺乏金属离子,H+易乘机放电;(2)镀液本体的主盐浓度低,扩散与电迁移速度都下降,阴极界面液层中金属离子的补充速度也低,浓差极化过大。

配合物电镀则较复杂。若单独提高主盐浓度,则配合比变小,阴极电化学极化不足。在保持配合比不变的前提下,要提高主盐浓度,配位剂浓度应按比例提高,即镀液应浓,但这受多种因素制约,镀液浓度不可随意提高。

赫尔槽试验时,若认为主盐浓度过低,可补加后再试验,使烧焦区在其他条件相同的情况下,达到或接近新配液的试片烧焦范围。

简单盐电镀

(1) pH 高时,阴极界面液层中H+浓度本身就低,量不大的H+还原即会使pH 升高至产生烧焦的值。

(2) 镀液本体的H+浓度低时,H+向阴极界面液层的扩散、电迁移速度也低,来不及补充阴极界面液层中H+的消耗,其pH 上升更快,也加剧烧焦。






目前的年代,对电镀加工技术的要求已经上了一个台阶了.以前的电镀技术对废水等处理都不是很给力,现在可以让电镀对环境的影响达到较低.电镀加工生产是一类性强、综合性高、复杂性多的系统工程,无论是电镀加工厂家,还是综合性电镀加工企业,都具有“四多”特点:镀种多:有各种不同工艺类型的镀种,单层或多层镀,即使同一镀种或镀层,因组合不同,又可分吊镀、滚镀等不同生产方式。

工序多:如镀前处理(脱脂、酸洗、活化等)、电镀、电镀加工后处理(钝化、出光、氢、干燥等)。不同的基体前处理、电镀和后处理工艺各异。品种多:如产品、材料几何形状、质量要求不同等,都随产品不同和质量要求不同,其产品生产过程、工艺条件等也各不相同。因素多:如原材料、工艺配方、操作条件、设备正常程度,乃至水、电、气三废治理等电镀生产过程中,每一因素均直接影响产量,因此必须加强现场生产技术管理。




电镀之定义

电镀(electroplating)被定义为一种电沉积过程,就是利用电解的方式使金属附着于物体表面,以形成均匀、致密、结合力良好的金属层的。简单的理解,是物理和化学的变化或结合。其目的是在改变物体表面之特性或尺寸。例如赋予产品以金属光泽而美观大方。

2.电镀之目的

电镀的目的是在基材上镀上金属镀层,改变基材表面性质或尺寸。例如赋予金属光泽美观、物品的防锈、防止磨耗、提高 导电度、润滑性、强度、耐热性、耐候性、热处理之防止渗碳、氮化 、尺寸错误或磨耗之另件之修补。

3.电镀原理

电镀是一种电化学过程,也是一种氧化还原过程.电镀的基本过程是将零件浸在金属盐的溶液中作为阴极,金属板作为阳极,接直流电源后,在零件上沉积出所需的镀层。

4.塑胶外壳电镀流程

化学去油--水洗--浸丙同---水洗---化学粗化水洗敏化--水洗--活化--还原--化学镀铜--水洗光亮硫酸盐镀铜--水洗--光亮硫酸盐镀镍--水洗--光亮镀铬--水洗烘干送检。






在PCB打样中,化学镍钯金与电镀镍金罚区别:

电镀镍金,通过电镀的方式,使金粒子附着到PCB板上,因为附着力强,又称为硬金;在PCB打样中,使用该工艺,可大大增加PCB的硬度和性,能有效防止铜和其他金属的扩散,而且能适应热压焊与钎焊的要求。

相同点:

1.都属于印制线路板领域的一种重要的表面处理工艺;

2.主要的应用领域是打线连接工艺,都应对中电子电路产品。

不同点:

缺点:

1.化学镍钯金采用普通的化学反应工艺,相比较电镀镍金,其化学反应速率明显偏低;

2.化学镍钯金的药体系更为复杂,对生产管理和管理方面的要求更高。

优点:

1.化学镍钯金采用无引线镀金工艺,减少引线排布空间,相比较电镀镍金而言,更能应对更精密,更高的电子线路;

2.化学镍钯金综合生产成本更低;

3.化学镍钯金无放电效应,在金手指圆弧率控制方面有更高的优势;







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