湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
公司是经科学技术1部认定的“火炬计划重点高新技术企业”、是按高企认定新标准经湖北省高新技术企业认定管理工作协调小组认定的“高新技术企业”；公司多项产品通过了省部级和热处理行
活性屏离子氮化炉
湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
公司是经科学技术1部认定的“火炬计划重点高新技术企业”、是按高企认定新标准经湖北省高新技术企业认定管理工作协调小组认定的“高新技术企业”；公司多项产品通过了省部级和热处理行业协会的科技成果鉴定，曾获得“科学技术进步二等奖”、“教育1部科技进步一等奖”、“机械工业科技进步三等奖”等奖项，公司产品项目曾被列为“火炬计划”、“经贸委国1债”、“科技部中小企业技术基1金”，公司多项产品被评为“湖北省高新技术产品”和“热处理行业设备”。低气压下的辉光放电虽然可以处理这些材料，但存在成本、处理效率等问题，目前无法规模化应用于纺织品的表面处理。
辉光离子氮化是利用辉光放电原理进行的。辉光放电是当气体越过电晕放电区后，若减小外电路电阻，或提高全电路电压，继续增加放电功率，放电电流将不断上升。次大气压辉光放电技术目前可用于低温材料、生物材料、异型材料的表面亲水处理和表面接枝、表面聚合、金属渗氮、冶金、表面催化、化学合成等工艺。同时辉光逐渐扩展到两电极之间的整个放电空间，发光也越来越明亮。当电子能f提高，也就是增强电场的操作参数，则能使电晕放电过渡到辉光放电。
选用正弦波中频靶电源，由于波形的原因，靶面产生打弧的几率更低并优于双极性矩形波中频靶电源。更适合于对薄膜表面和膜层质量要求较高的溅射工艺。操作比气体渗氮复杂，需要控制的厂艺参数多，测量温度和控制温度均匀比较难。一般来说，射频辉光放电与直流及中频交流脉冲辉光放电相比，可以在低一个数量级的气体压强状态下进行(例如，1.0×1-2Pa)。
在放电开始前间隙中必须存在大量的种子电子，而长寿命的亚稳态及其彭宁电离可以提供这些种子电子。根据10ns暴光的ICCD拍摄的放电图像，Radu小组发现，在大气压惰性气体He、Ne、Ar、Krypton的DBD间隙中，可以实现辉光放电。
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