PLD 主要选件
离子辅助沉积 (IBAD)系统介绍
离子辅助沉积已经成为在无规取向的基片或无定形基片上沉积双轴结构薄膜的一种重要技术。Neocera 开发了离子辅助的PLD 系统，该系统将PLD 在沉积复杂材料方面的优势与IBAD 能力结合在一起。
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脉冲激光沉积设备介绍
脉冲激光沉积设备公司
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离子辅助沉积 (IBAD)系统介绍
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脉冲激光沉积设备介绍
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是比较理想的薄膜与涂层合成设备。可制备的薄膜包括氮化物、氧化物、多层膜、钻石、石墨烯、碳纳米管、2D材料。基板:采用适合于氧气环境铂金加热片，大小2英寸，加热温度可达1200摄氏度，温度差<。Blue Wave还提供相关系统配件，例如基片加热装置、原位监测工具。此外，BlueWave还为您提供标准的薄膜以及材料涂层，例如氧化物涂层、导电薄膜、无定型或纳米晶Si/SiC、晶体AlN-GaN、聚合物、纳米钻石、HFCVD钻石涂层以及器件加工。
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