小方分子提纯设备钙钛矿热蒸发镀膜机生产厂家
小方分子提纯设备
主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa；
系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构
钙钛矿热蒸发镀膜机生产厂家
小方分子提纯设备钙钛矿热蒸发镀膜机生产厂家
小方分子提纯设备
主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa；
系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。
抽气系统：采用分子泵+机械泵抽气系统；
样品可加热，加热温度为：200-600℃；
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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