氮化钛的结构及性能TiN具有典型的NaCl型结构，属面心立方点阵，面心立方的顶部是氮原子，钛原子位于面心立方的(1/2,0,0)空间位置。TiN是非化学计量化合物，其稳定的组成范围为TiN0.6~TiN1.16，氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起TiN结构的变化。TiN粉末一般呈黄褐色，超细TiN粉末呈黑色，而TiN晶体呈金黄色。TiN的晶格常数为a=4.23 nm，TiC的晶
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氮化钛的结构及性能
TiN具有典型的NaCl型结构，属面心立方点阵，面心立方的顶部是氮原子，钛原子位于面心立方的(1/2,0,0)空间位置。TiN是非化学计量化合物，其稳定的组成范围为TiN0.6~TiN1.16，氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起TiN结构的变化。TiN粉末一般呈黄褐色，超细TiN粉末呈黑色，而TiN晶体呈金黄色。TiN的晶格常数为a=4.23 nm，TiC的晶格常数为a=4.238 nm，TiO的晶格常数为a=4.15 nm，这三种物质的晶格参数非常接近，所以TiN分子中的氮原子可以被氧、碳原子以任意比取代形成固溶体，氮化钛的理化性质由氮元素的含量来决定，当氮元素含量减少时，氮化钛的晶格参数反而增大，硬度也会有显微的增大，但氮化钛的抗震性随之降低。 次数用完API KEY 超过次数限制
蒸发镀膜过程中，从膜材表面蒸发的粒子以一定的速度在空间沿直线运动，直到与其他粒子碰撞为止。在真空室内，当气相中的粒子浓度和残余气体的压力足够低时，这些粒子从蒸发源到基片之间可以保持直线飞行，否则，就会产生碰撞而改变运动方向。为此，增加残余气体的平均自由程，以减少其与蒸发粒子的碰撞几率，把真空室内抽成高真空是必要的。当真空容器内蒸发粒子的平均自由程大于蒸发源与基片的距离(以下称蒸距)时，就会获得充分的真空条件。设蒸距(蒸发源与基片的距离)为L，并把L看成是蒸发粒子已知的实际行程，λ为气体分子的平均自由程，设从蒸发源蒸发出来的蒸汽分子数为N0，在相距为L的蒸发源与基片之间发生碰撞而散射的蒸汽分子数为N1，而且假设蒸发粒子主要与残余气体的原子或分子碰撞而散射，则有N1/N0=1-exp(L/λ)(1) 次数用完API KEY 超过次数限制
PVD技术被认为是取代电镀方法zui理想的产业化应用技术，有望成为装饰镀膜领域的重要技术手段，且已显示出巨大竞争优势。随着人们的高质量、高品位生活对PVD高xing能装饰涂层的巨大需求，对现有PVD装饰涂层提出了高、抗yang化、抗指纹的综合功能装饰性要求，掌握具有超硬、、耐氧化、耐酸碱等优异性能的高质量功能装饰涂层的绿色镀膜技术，是产品维持核心竞争力的有利保证。PVD真空镀膜生产线、自动化拉丝生产线以及喷涂生产线组成的一整套清洁、环保、gao效的功能多彩膜连续生产线。经检验，检验结果符合相关标准要求，经用户使用，反应良好，具有显著的经济和社会效益。 次数用完API KEY 超过次数限制
后处理，涂面漆。第三节溅射镀膜溅射镀膜是指在真空条件下，利用获得功能的粒子轰击靶材料表面，使靶材表面原子获得足够的能量而逃逸的过程称为溅射。被溅射的靶材沉积到基材表面，就称作溅射镀膜。溅射镀膜中的入射离子，一般采用辉光放电获得，在l0-2Pa～10Pa范围，所以溅射出来的粒子在飞向基体过程中，易和真空室中的气体分子发生碰撞，使运动方向随机，沉积的膜易于均匀。近年发展起来的规模性磁控溅射镀膜，沉积速率较高，工艺重复性好，便于自动化，已适当于进行大型建筑装饰镀膜，及工业材料的功能性镀膜，及TGN-JR型用多弧或磁控溅射在卷材的泡沫塑料及纤维织物表面镀镍Ni及银Ag。第四节电弧蒸发和电弧等离子体镀膜这里指的是PVD领域通常采用的冷阴极电弧蒸发，以固体镀料作为阴极，采用水冷、使冷阴极表面形成许多亮斑，即阴极弧斑。弧斑就是电弧在阴极附近的弧根。 次数用完API KEY 超过次数限制
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