排酸熟成原理
清洗工艺要素的选择：
1、清洗介质：采用超声波清洗，一般有两种清洗剂:化学溶剂和水基清洗剂。清洗介质的化学作用，加上超声波清洗的物理作用，两种作用相结合，以对物体进行充分、的清洗。
2、清洗温度：一般来说，超声波在30℃-40℃时空化效果好。清洗剂则温度越高越好，作用越显著。通常实际应用超声波清洗时，采用40℃-60℃的工作温度。
排酸熟成原理
排酸熟成原理
清洗工艺要素的选择：
1、清洗介质：采用超声波清洗，一般有两种清洗剂:化学溶剂和水基清洗剂。清洗介质的化学作用，加上超声波清洗的物理作用，两种作用相结合，以对物体进行充分、的清洗。
2、清洗温度：一般来说，超声波在30℃-40℃时空化效果好。清洗剂则温度越高越好，作用越显著。通常实际应用超声波清洗时，采用40℃-60℃的工作温度。
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形成装置及影响因素
选择适宜的放电方式可获得不同性质和应用特点的等离子体，通常，热等离子体是气体在大气压下电晕放电产生，冷等离子体由低压气体辉光放电形成。
热等离子体装置[4]是利用带电体(如刀状或针状和狭缝式电极)造成不均匀电场，称电晕放电，使用电压和频率、电极间距、处理温度和时间对电晕处理效果都有影响。电压升高、电源频率增大，则处理强度大，处理效果好。但电源频率过高或电极间隙太宽，会引起电极间过多的离子碰撞，造成不必要的能量损耗;而电极间距太小，会有感应损失，也有能量损耗。处理温度较高时，表面特性的变化较快。c、先点动试车，然后空运转2-3分钟，检查传动系统（电动机、联轴节、减速器）和运输带的运动是否平稳，确认一切正常后，方可进行生产。处理时间延长，极性基团会增多;但时间过长，表面则可能产生分解物，形成新的弱界面层。
多层镀膜过程之间的清洗：多层镀膜过程中时有污染，可以调整清洗器能量档位来对镀膜件在镀膜过程中的污染进行清洗，使下一次镀膜效果更好。
其他的如等离子刻蚀、活化和涂镀等：由于等离子清洗处理的功能和用途如此之多，因此，光学、光电子、光通讯、电子、微电子、半导体、激光、芯片、珠宝、显示、航天航空、生命科学、医学、、生物、物理、化学等各方面的科研和生产都有其应用之处。
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