300C有机无机联合蒸发
主要用途：
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标：
极限真空度：≤6.
钙钛矿镀膜设备价格
300C有机无机联合蒸发
主要用途：
用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。
系统组成:
该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。
技术指标：
极限真空度：≤6.7×10 Pa
恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min
系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；
真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ，
蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。
蒸发温度：加热温度：室温～1800℃；
蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；
工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调；
烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）
电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对
石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999
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双靶磁控溅射镀膜仪
产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。
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