显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。英文中的蚀刻一词“Etching”源自于古日耳曼语“吃”，是指利用带有腐蚀性的酸将图案“啃”入坚硬的金属表面。蚀刻被广泛运用于轻奢品，特别是像这样本身就是坚久的物品。该技术能在金属表面创造出具有高度装饰性的浅浮雕，而又不影响其结构的完整性。
正显影时
手机壳LOGO曝光显影工艺
显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。英文中的蚀刻一词“Etching”源自于古日耳曼语“吃”，是指利用带有腐蚀性的酸将图案“啃”入坚硬的金属表面。蚀刻被广泛运用于轻奢品，特别是像这样本身就是坚久的物品。该技术能在金属表面创造出具有高度装饰性的浅浮雕，而又不影响其结构的完整性。
正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。静电潜像电位越高的部分，吸附色粉的能力越强；静电潜像电位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。对应静电潜像电位（电荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模拟复印机中。反转显影中，感光鼓与色粉电荷极性相同。
经过不断改良和工艺设备发展，亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工，特别在半导体制程上，蚀刻更是不可或缺的技术。
蚀刻：一种将材料使用bai化学反应或物理撞击作用而du移除的技术。通常所指蚀刻也称光化学蚀刻，指通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。
显影液液温应控制在一定范围内，如果显影液温度低,显影液化学活性降低，溶解感光胶层能力下降，显影不充分，
图文部分的网点百分率比正常的扩大，并且空白部分起脏。 显影液温度过高也会使已曝光的图文部分溶解，网点还原性变差，同时造成耐印力降低。
比较适宜的显影温度范围是20~25℃。显影时间对PS版的显影质量有直接的影响，显影时间不足，非图像部分的感光层不能溶解，会引起版面起脏。
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