湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
辉光放电进行渗氮的工艺，与气体渗氮相比渗入速度快。由于离子氮化法利用了离子化了的气体的溅射作用，因而可显著地缩短处理时间(离子渗氮的时间仅为普通气体渗氮时间的1/3~1/5)。
辉
等离子体技术
湖北丰热科技有限公司（原武汉离子热处理研究所），制造辉光离子渗氮炉的高新技术企业；是集研发、生产、销售安装辉光离子渗氮炉，并为用户提供成套的离子渗氮工艺技术服务。
辉光放电进行渗氮的工艺，与气体渗氮相比渗入速度快。由于离子氮化法利用了离子化了的气体的溅射作用，因而可显著地缩短处理时间(离子渗氮的时间仅为普通气体渗氮时间的1/3~1/5)。
辉光离子渗氮的特点有：可节约能源和氨的消耗量，电能消耗为气体氮化的1/2～1/5，氨气消耗为气体氮化的1/5～1/20。5mm的气体（亚气、氮气、空气）间隙中做了大量的实验，并宣称实现了大气压辉光放电。易于实现局部氮化，只要设法使不欲氮化的部分不产生辉光即可1，非渗氮部位便于保护，采用机械屏蔽、用铁板隔断辉光，即可保护。
将两个面积不相等的电极置于射频(例如13.56MHZ)辉光放电离子体中形成非对称放电，面积小的那个电容耦合阴极有可能形成并建立阴极靶表面的负偏压，并能产生溅射。当电压调整到400~800V时，氮即电离分解成氮离子、氢离子和电子，并在工件表面产生辉光放电现象。电容耦合型射频(RF)放电电极自给偏压的形成，可以防止绝缘层表面正电荷的积累，有助于射频放电的维持。阴极靶表面的“自生负偏压”的数值可以近似等于射频溅射电压的幅值，1高时可达千伏量级。
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