光学玻璃的抗辐射研究
耐辐射光学玻璃中引入了CeO2，在高能γ射线辐照后，能俘获电子，不使玻璃内部产生色心,且因Ce和Ce的吸收带在紫外区。当CeO2含量过高时，在紫外、红外的吸收带延伸到可见光区，使可见光的蓝色的区域吸收增加，导致玻璃呈黄色。光学镜片质量区域分析（一般外观检验假定面为质量区域）（一般外观检验假定面为区域）（1）图纸上一般均标明允许裂边尺寸，
石英玻璃
光学玻璃的抗辐射研究
耐辐射光学玻璃中引入了CeO2，在高能γ射线辐照后，能俘获电子，不使玻璃内部产生色心,且因Ce和Ce的吸收带在紫外区。当CeO2含量过高时，在紫外、红外的吸收带延伸到可见光区，使可见光的蓝色的区域吸收增加，导致玻璃呈黄色。光学镜片质量区域分析（一般外观检验假定面为质量区域）（一般外观检验假定面为区域）（1）图纸上一般均标明允许裂边尺寸，但裂痕与擦伤通常未标示。同时，也会因玻璃中其他成分的影响而加深颜色，所以CeO2的含量不能太高，在K509中CeO2的含量约为0.4%～0.5%，在K709中CeO2约为1%。
影响光学玻璃清洗的因素有哪些呢？下面具体看看：
A，清洗工艺的技术关键：光学玻璃经过清洗后能否达到表面不留任何油污，污迹，表面光滑，水膜完好！
B，影响清洗后光学玻璃质量的因素及相应的解决方法：
（1）玻璃本身的质量螺旋送料机及被污染的情况，主要为：表面有霉点，气泡，划伤等，在机械处理中，如：研磨，搽试，测应力时，人为导致的污染情况不一；
（2）清洗剂的选择其能动及温度，水质；我们采用非ODS的水类碱性清洗剂，主要由 水，碱，表面活性剂，防锈材料组成，化学式C3H8，具有侧链的环状烯烃，具有较强的 溶油能力；特点：低毒，不燃，清洗成本低等特点；
（3）溶液的浓度直接影响清洗度的大小； 通常清洗液的PH值一般在8.5-12之间，若PH值大于箱式变压站10，侧表面活性物质作用要削弱，当PH 值大于12时，侧清洁度下降。
（4）溶液温度及浸泡时间也同高温循环风机样影响去污效率； 当温度上升，溶液的反应速度也上升，污染物的粘度下降，便于污染物脱离，但溶液的稳定 度下降。若温度过高，会在玻璃边角上产生花纹。
（5）在清洗过程中，还应注意必须使用纯水或去离子水，若使用自来水等硬水侧很难除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na离子等杂质会在烘干后的玻璃表面形成一层白色雾状膜，污染玻璃；
（6）光学玻璃经清洗后需漂洗，漂洗后的清洁度，除与清洁剂的漂洗性和清洗液中的清洁剂浓度有关外，还与漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，温度及循环使用的纯水是否干净有关；
（7）清洗环境的清洁程度；
（8）清洗后的干燥工艺及温度： 应尽量保证玻璃垂直，可在玻璃下垫陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水印；烘箱温度控制在70度左右，时间在20分钟左右。若温度过高，会在玻璃边角上产生花纹。
光学玻璃打磨后没有条纹
普通玻璃产生的条纹，主要是因为配合料不均匀；耐火材料腐蚀（主要引入了Al）；制造玻璃制品时的搅动而产生的。
所以光学玻璃就要从这几个方面着手，原料要求纯度>99%，杂质都小于十万分之几，以及原料的粒度，秤量都有很高的要求。熔炉都采取陶瓷或铂作为耐材。成型一般只采用浇注法、滚压法、破缸法、液态法，有效地防止了在成型时对玻璃的搅动。
另外熔炉的结构也与日用玻璃熔炉不一样，它分为熔化池（加料）、调节池（调节熔化气氛）、精炼池（澄清）、均化池（搅拌），大型炉日产量一般也就只有5吨。
如何对不同材质的光学镜片选择对应的抛光粉
光学镜片经过研磨液细磨后，其表面尚有厚约 2–3 m 的裂痕层，要消除此裂痕层的方法即为抛光。抛光与研磨的机制一样，唯其所使用的工具材质与抛光液 (slurry) 不同，抛光所使用的材料有绒布 (cloth)、抛光皮 (polyurethane) 及沥青 (pitch)，通常要达到的抛光面，常使用的材料为抛光沥青。视场小，孔径大探测器接收面积较小、反射系统没有色差、系统对象质要求不高。
抛光与研磨所用的运动机构相同，除了抛光的工具与工作液体不一样外，抛光时所需环境条件亦较研磨时严苛。一般抛光时要注意的事项如下：
抛光沥青的表面与抛光液中不可有杂质，不然会造成镜面刮伤。
抛光沥青表面要与镜片表面吻合，否则抛光时会产生跳动，因而咬持抛光粉而刮
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