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抛光的目的是去除细磨后遗留在磨面上的细微磨痕抛光
抛光的目的是去除细磨后遗留在磨面上的细微磨痕，得到光亮无痕的镜面。抛光的方法有机械抛光、电解抛光和化学抛光三种，其中的是机械抛光。机械抛光在抛光机上进行，将抛光织物(粗抛常用帆布，精抛常用毛呢)用水浸湿、铺平、绷紧并固定在抛光盘上。
启动开关使抛光盘逆时针转动，将适量
正置偏光显微镜
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抛光的目的是去除细磨后遗留在磨面上的细微磨痕
抛光
抛光的目的是去除细磨后遗留在磨面上的细微磨痕，得到光亮无痕的镜面。抛光的方法有机械抛光、电解抛光和化学抛光三种，其中的是机械抛光。机械抛光在抛光机上进行，将抛光织物(粗抛常用帆布，精抛常用毛呢)用水浸湿、铺平、绷紧并固定在抛光盘上。
启动开关使抛光盘逆时针转动，将适量的抛光液(氧化铝、氧化铬或氧化铁抛光粉加水的悬浮液)滴洒在盘上即可进行抛光，抛光时应注意：
试样沿盘的径向往返缓慢移动，同时逆抛光盘转向自转，待抛光快结束时作短时定位轻抛。
)在抛光过程中，要经常滴加适量的抛光液或清水，以保持抛光盘的湿度，如发现抛光盘过脏或带有粗大颗粒时，必须将其冲刷干净后再继续使用。
抛光时间应尽量缩短，不可过长，为满足这一要求可分粗抛和精抛两步进行。
④抛有色金属(如铜、铝及其合金等)时，在抛光盘上涂少许肥皂或滴加适量的肥皂水。
正置与倒置金相显微镜的区别
了解正置与倒置金相显微镜的主要区别：
倒置金相显微镜:主要适用对各种金属和合金材料的组织结构、铸件质量以及热处理后相位组织进行研究分析工作，是金属学研究的必备仪器，由于试样的观察面倒置不受高度限制，在制备试样时只要一个观察面平整即可。
正置金相显微镜具有和倒置金相显微镜同样的基本功能，因此更广泛的应用于透明，半透明或不透明物质。大于3 微米小于20微米观察目标，比如金属陶瓷、电子芯片、印刷电路、LCD基板、薄膜、纤维、颗粒状物体、镀层等材料表面的结构、痕迹，都能有很好的成像效果。
长寿命的显微镜在主机制造材质上应该以铸铁材料为主
在使用上要考虑金相显微镜机械性能的持续稳定性。除了成像质量外，还应考虑到仪器在正常使用下长期稳定保持工作状态，我们称之为机械性能持续稳定性。金相显微镜是值高精密的光学仪器，其使用寿命可达30年以上，用户在选购时还要考察生产商在制造上所选用的材质、制造精度、机械设计的科学性和合理性。长寿命的显微镜在主机制造材质上应该以铸铁材料为主，避免使用过多的功能塑料材料。同时光学部件为能保持较长的使用寿命需进行防霉处理，以镀膜防霉为主避免选购防霉。机械齿轮装置应保证长时间高强度使用不下滑，性能稳定，以谐波齿轮为。上述必要条件从实用角度对生产商在制造上提出了更为明确的要求，用户也应遵循以上原则来选购经济适用的金相显微镜。
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