具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间
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具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。根据不同药品检验实验室的条件和要求，检测实验室的通风系统常采用惊讶传感自动变频控制（或PLC编程控制）和变风量系统（VAV）控制方式两种方式，使实验室内空气达到标准，为药品检验实验室工作人员提供舒适、顺畅、便捷的工作环境。
在实验室这种性极高的场合，外观反而是其次的要求。同时，实验室的装修也不会去强调美观时尚或者温馨的效果，而是要显示出化的特点。可以选择纯色PVC地板或者是仿石材的PVC地板，外观效果都比较合适。对于实验室地坪的施工，也有大部分的实验室采用防腐环氧地坪。超微细加工、装配和测试,对诸如空气洁净、防微振、防电磁干扰、低噪声以及对超纯水、超纯气体等的严格要求,使由此产生的环境控制学得到了迅速发展。环氧防腐地坪既能应对高强度的叉车作业，而且具有很强的抗化学腐蚀性，满足实验室中的特殊要求。
食品工厂洁净厂房的照明用于为工作人员创造一个明亮、舒适的光环境,以提高工作效率,降低视力疲劳,保护工作人员的视觉健康。为获得优良的光环境,必须确定合理的照度,选择配光合理的灯具,选择适当的室内各表面反射比,使室内各部分亮度和照度均获得合理的分布,眩光得到控制,并有良好的光色和显示指数。同时,还应考虑经济性和美观。除可利用局部照明外，必要时也可利用自然光，当平面上有外廊时就可以做到这一点。作为食品工厂洁净室的照明设计要求的非常重要的一点就是要考虑灯具选择和安装中的气密性、防尘封堵措施。
在集成电路的制造过程中,被加工的是单一的硅片,从原材料到产品需要进行几百道物理、化学加工工序,其间如果遭受污染,就会引起产品大量报废,例如64 MDRAV,在制造过程中,空气中尘埃粒径应被控制在0.035μm以下;环境微振动值应控制在4.5X10-3mm/s以下,在光刻工序,很小的微振动会引起对位不准,影响产品的成品率。其他如精密机械加工、光学器件检测、激光实验、超薄金属轧制以及理化实验等都需要对微振动进行控制。因此，将一般照明的下限值定为150lx是合适的，虽然在300lx时有更高的工作效率。
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