在光学镀膜材料的应用上，镀膜靶材是核心技术，通过不同靶材中含有的稀有金属不同而形成不同的光学镀膜材料，普遍应用的稀有金属有氟化钇、氟化镨、锗、硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆、钴、、硒等金属。涂敷防止弹性体元件中副产品溶出并保护产品表面不受和无机试剂、酸和溶液的影响。在反射镜的光学材料中普遍用到铜、钼、硅、锗等金属，在输出端和透射光学原件中锗、、硒化锌等应用广泛。
随着镀
低压化学气相沉积
在光学镀膜材料的应用上，镀膜靶材是核心技术，通过不同靶材中含有的稀有金属不同而形成不同的光学镀膜材料，普遍应用的稀有金属有氟化钇、氟化镨、锗、硫化锌、氟化镁、二氧化钛、氧化锆、钴、、硒等金属。涂敷防止弹性体元件中副产品溶出并保护产品表面不受和无机试剂、酸和溶液的影响。在反射镜的光学材料中普遍用到铜、钼、硅、锗等金属，在输出端和透射光学原件中锗、、硒化锌等应用广泛。
随着镀膜技术的不断推广，光学镀膜技术的应用领域也在不断拓宽，这些具有优异物理特性的金属将随着我们生活水平的提高为我们的生活带来更多的精彩。
派瑞林纳米涂层式一种高分子热可塑性聚合体，由单体对二在真空状态下均匀分布在被涂装物的缝隙和表层然后聚合。在盐雾试验及其它恶劣环境下仍能保持电路板的高可靠性，并且不会影响电路板上电阻、热电偶和其它元器件的功能。运用气相沉积的处理技术，可以于物体表面均匀coating形成膜层，薄膜的厚度可在1微米至 50微米的范围内任意调整。由于在真空状态下操作蒸气无孔不入效率，可形成无膜层， 并地控制膜层厚度，且各处厚度均匀一致，使派瑞林（(Parylene Coating)涂层的覆被特性远优于Epoxy（电泳）、Spary（喷涂）、Dipper（含浸）等涂装方式。
真空镀膜加工清除镀膜室内的灰尘，设置清洁度高的工 作间，保持室内高度清洁是镀膜工艺对环境的基本要求。低压化学气相沉积加工在影响产量的五大因素〔操作者、设备、材料、工艺方法及生产环境)中，人是位的。空气湿度大的地区，除镀前要对基片、真空室内各部 件认真清洗外，还要进行烘烤除气。要防止油带入真空室内，注意油扩散泵返油，对加热功率高的扩散泵必须 采取挡油措施。
真空镀膜加工表面的清洁处理非常重要，直接影响到电镀的产品。加工件进入镀膜室定要做到认真的镀前清洁处理，表面污染来自工件在加工、传输、包装过程所粘附的各种粉尘、润滑油、 机油、抛光膏、油脂、汗渍等物，
高真空离子镀适用范围比较广，如ABS料、ABS+PC料、PC料的商品。传统水电镀技术流程杂乱、环境污染大、设备成本高、对作业人员身体伤害大，电镀出来产品外观损坏大，产品稳定性差。
为什么要在真空镀膜工艺之前在基材表面先喷一层底漆呢？因为塑料基材外表可能不平滑，如果没有先喷底漆直接使用高真空镀膜的话，如果客人要求很高，产品可能会因为工件外表不光滑，而使加工出来的产品光泽度相对会低一点，金属质感相对也会有所下降，如果基料有气泡，水泡这状况更高明显，就无法满足客人需求。使用高纯度的Parylene作钝化层和介质层，能提供安全、稳定的防护。
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