比较适宜的显影温度范围是20~25℃。显影时间对PS版的显影质量有直接的影响，显影时间不足，非图像部分的感光层不能溶解，会引起版面起脏。显影时间越长，显影就越，但显影时间过长，对印版上网点曝光虚边过渡的侵蚀作用也越深人，版面上的细小网点容易丢失而如果显影液的浓度偏低，碱性过弱，会使显影速度过慢,容易出现显影不、版面起脏和暗调小白点糊死等现象。
负性胶与正性胶性能特征进行了比较，结论
弧度面曝光显影厂家
比较适宜的显影温度范围是20~25℃。显影时间对PS版的显影质量有直接的影响，显影时间不足，非图像部分的感光层不能溶解，会引起版面起脏。显影时间越长，显影就越，但显影时间过长，对印版上网点曝光虚边过渡的侵蚀作用也越深人，版面上的细小网点容易丢失而如果显影液的浓度偏低，碱性过弱，会使显影速度过慢,容易出现显影不、版面起脏和暗调小白点糊死等现象。
负性胶与正性胶性能特征进行了比较，结论概括如下：
1、曝光显影过程不同
正性胶在曝光区间显影，负性胶则相反。
2、形成的轮廓不同
负性胶和正性胶边界漫射光形成的轮廓不同，负性胶由于曝光区间得到保留，漫射形成的轮廓使显影后的图象为上宽下窄的图像；而正性胶相反，为下宽上窄的图像。
3、显影剂的溶液不同
正胶溶于强碱，显影剂采用中型碱溶液，而是负性胶多采用有机溶液，如二甲本溶液。
负胶：曝光区域发生交联，难溶于显影液。特性：良好的粘附能力、良好的阻挡作用、感光速度快；显影时发生变形和膨胀，所以只能用于2μm的分辨率。
正胶：正性光刻胶的曝光区域更加容易溶解于显影液。特性：分辨率高、台阶覆盖好、对比度好；粘附性差、抗刻蚀能力差、高成本。
目般都是用正胶，对于线宽要求不高的时候或者一些特殊的用途（比如PSS等）可以选择负胶
由于扩散转移过程中未曝光的卤化银在物理显影核层上形成正像,因此其感光特性曲线与化学显影得到的负性特性曲线相反,即未曝光区的物理显影银影像密度高,曝光区的物理显影银密度低.将CTP版材进行光楔曝光,显影加工后,利用扫描电镜观察不同曝光级的物理显影银结构,结果如图2所示.其中白色部分为金属银,黑色部分为基底,银影像的反射密度标于相应的照片下.由图中可以看出,对于不同曝光级,物理显影银都呈颗粒状.在较弱曝光级,物理显影银颗粒数目多,堆积紧密,这也是影像区呈现亲油性的主要原因.
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